一种耐高温紫外正型光刻胶及光刻工艺

发布时间：2017-09-27 10:07

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【摘要】：光刻胶作为光刻技术中的关键性基础材料,其配方组成和光刻工艺对光刻胶的分辨率等性能有重要影响.以自制的酰胺-酰亚胺聚合物作为成膜树脂,与感光剂2,1,5-磺酰氯的衍生物等其他成分按一定比例配制成光刻胶,通过研究不同配比、不同光刻工艺条件下的光刻性能,得到了该光刻胶的最佳配方组成及最佳光刻工艺条件.该光刻胶的成像反差可达到约3.35;在最佳配方组成和最佳光刻工艺条件下,采用接触式曝光,可以获得最大约1?m的线宽分辨率,同时该光刻胶具有良好的耐热性,270℃高温下坚膜30 min,光刻图形未发现明显塌边现象.
【作者单位】： 华中科技大学光学与电子信息学院武汉光电国家实验室;
【关键词】： 紫外正型光刻胶 酰胺-酰亚胺树脂 光刻工艺
【基金】：国家自然科学基金(51172081,51473058和51135005)资助
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 近年来,随着微电子技术的快速发展,图形的分辨率要求越来越高,因此对光刻胶的要求也越来越高.国外对光刻胶的研究已经相当成熟,投入商用的紫外正型光刻胶最高分辨率可达亚微米级别,如日本JSR公司的PFR系列、美国安智公司的AZ系列等.国内从事光刻胶研制工作并已经商业化生产的

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本文编号：929060