磁控溅射法制备IGZO薄膜材料技术的研究进展

发布时间：2017-10-06 16:03

  本文关键词：磁控溅射法制备IGZO薄膜材料技术的研究进展

  更多相关文章： IGZO 溅射靶材 光电薄膜 制备技术

【摘要】：IGZO TFT具有载流子迁移率高、可见光透过率高、大面积均匀性良好、低功耗等优点,成为显示器朝着大尺寸、柔性化方向发展最具潜力的新型背板技术。综述了IGZO材料的特性和应用,总结出IGZO薄膜的制备方法,同时提出了IGZO靶材的性能要求和关键技术,可为IGZO靶材的研究及产业化提供借鉴。
【作者单位】： 洛阳船舶材料研究所;
【关键词】： IGZO 溅射靶材 光电薄膜 制备技术
【分类号】：TN304.2
【正文快照】： IGZO材料技术从1995[1]年问世以来,凭借其在成像质量、大尺寸制备等方面的绝对优势迅速成为面板行业焦点。而自从智能手机和平板电脑迅速普及以来,人们对于显示器屏幕清晰度和尺寸的要求也不断加大。采用IGZO技术的显示器面板不同于采用硅系材料的面板,既拥有远高于传统α-Si，

本文编号：983680