铜离子印迹聚合物的制备及性能研究

发布时间：2017-12-23 19:00

  本文关键词：铜离子印迹聚合物的制备及性能研究　出处：《高分子通报》2016年10期 　论文类型：期刊论文

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【摘要】：在乙醇溶液中,以Cu(Ⅱ)为模板分子,二甲基丙烯酸乙二醇酯为交联剂采用分散聚合法制备铜离子印迹聚合物(Cu~(2+)-IIP),并通过傅里叶变换红外光谱、紫外光谱对聚合物的结构及性能进行了表征。考察了吸附时间、溶液初始浓度、pH值等因素对聚合物吸附性能的影响。实验表明,室温条件下,在pH=6,90min吸附达到平衡,其最大吸附量为1.42mmol/g;与非印迹聚合物相比,印迹聚合物有较大的吸附量及较好的选择性。因此,印迹聚合物在固相萃取、水处理等方面具有很好的应用前景。
【作者单位】： 北京化工大学;北京石油化工学院;
【分类号】：O631.3
【正文快照】： 分子印迹技术又称分子模板技术或烙印技术,是指以特定的目标分子为模板,通过聚合反应合成对该目标分子具有特异选择性的聚合物的一项技术。分子印迹源于免疫学,1972年Wulff等[1]首次报道了第一个人工合成印迹聚合物。离子印迹技术是分子印迹技术的分支。离子印迹聚合物(Ion im

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本文编号：1325076