物理气相输运法生长AlN六方微晶柱（英文）

发布时间：2018-05-21 04:01

  本文选题：Ⅲ-Ⅴ族半导体 + 氮化铝(AlN)晶体　； 参考：《无机材料学报》2017年02期

【摘要】：采用物理气相输运法(Physical Vapor Transport,PVT),在1700~1850℃生长温度下制备出AlN六方微晶柱;晶柱长度在1 cm左右,宽度在200~400μm,光学显微镜下观察为六棱柱形状并呈透明浅黄色光泽;扫描电子显微镜和原子力显微镜测试表明:AlN晶柱表面为整齐台阶状形貌,台阶宽度为2~4μm,高度在几个纳米;拉曼光谱测试AlN晶柱具有良好结晶质量。PVT法生长AlN六方微晶柱主要是在偏低温度下AlN晶体生长速率较慢,Al原子和N原子有足够时间迁移到能量较低位置结晶生长,进而沿着0001方向形成柱状结构。AlN六方微晶柱是对一维半导体材料领域的补充,通过对晶柱尺寸及杂质控制的进一步研究,有望在微型光电器件领域表现出应用价值。
[Abstract]:The hexagonal AlN hexagonal microcrystalline column was prepared by physical Vapor transport method at 1 700 鈩，

本文编号：1917637