当前位置:主页 > 科技论文 > 化学论文 >

一维半导体/碳材料电致化学发光检测五氯苯酚及铁离子

发布时间:2024-03-29 23:48
  电致化学发光在分析领域中的应用一直是研究的热点,因其具有背景噪音低、仪器设备简单、检测快速、线性范围较宽等特性,使得它成为环境检测中一种发展潜力巨大的检测技术。但是,在实际应用中仍然存在一些不尽如人意的地方,如许多材料容易发生聚集,稳定性不好,无法实现可循环利用;传感器由高毒性的重金属成分组成,限制了实际使用;单一材料的发光信号不强,难以对目标物进行有效的检测等。因此,开发并设计新型高稳定性、无毒、廉价、发光性能良好的材料用于电致化学发光检测是十分迫切的。本论文以一维半导体纳米材料为基础,构建了两种高稳定的新型电致化学发光传感器,具体研究工作如下:(1)利用一步电化学还原法和化学氧化法构建了氧化铜纳米线/还原氧化石墨烯复合材料,一种高稳定性的、有效的新型电化学发光传感器,并将其用于对五氯苯酚的超灵敏检测。氧化铜纳米线的电致化学发光现象首次被发现,同时还原氧化石墨烯可以有效地增强氧化铜纳米线的电致发光信号。在共反应剂过硫酸根离子的存在下,基于氧化铜纳米线/还原氧化石墨的电化学发光传感器具有高选择性和高灵敏度,在实验的最优条件下,检测五氯苯酚的线性范围为1.0×10-14~1.0×10-9...

【文章页数】:61 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

图2.1?(A)循环伏安法制备石墨巧的电沉积曲线,(B)电沉积制备CuNPs/rGO复合材料??的循环伏安曲线??

图2.1?(A)循环伏安法制备石墨巧的电沉积曲线,(B)电沉积制备CuNPs/rGO复合材料??的循环伏安曲线??

图2.1?(A)循环伏安法制备石墨巧的电沉积曲线,(B)电沉积制备CuNPs/rGO复合材料??的循环伏安曲线??CuO?NWs/rGO复合材料的电化学性能用循环伏安手段进行表征。图2.2为还??原氧化石墨締,铜纳米线,氧化铜纳米线/还原氧化石墨蹄修饰电极分别在0.067??mo....


图2.3?(A)?Cu?NPs/rGO复合材料扫描电镜图,(B)?CuO?NWs/rGO复合材料的俯视电??镜图,插图为截面图,(C)?CuO?NWs/rGO复合材料X射线能谱图??(2)透射电镜表征??

图2.3?(A)?Cu?NPs/rGO复合材料扫描电镜图,(B)?CuO?NWs/rGO复合材料的俯视电??镜图,插图为截面图,(C)?CuO?NWs/rGO复合材料X射线能谱图??(2)透射电镜表征??

Potential?(V)?Potential?(V)??图2.1?(A)循环伏安法制备石墨巧的电沉积曲线,(B)电沉积制备CuNPs/rGO复合材料??的循环伏安曲线??CuO?NWs/rGO复合材料的电化学性能用循环伏安手段进行表征。图2.2为还??原氧化石墨締,铜纳米线,氧....


图2.4(A)CuONWs/rGO复合材料的TEM图,(B)氧化铜纳米线的TEM图及其(C)H民-TEM??图??2.3.3复合材料的XRD表征??

图2.4(A)CuONWs/rGO复合材料的TEM图,(B)氧化铜纳米线的TEM图及其(C)H民-TEM??图??2.3.3复合材料的XRD表征??

图??2.3.3复合材料的XRD表征??为了进一步确定材料的结构和晶相,进行了?XRD分析。图2.5中(a)和(b)??分别为纯铁片和在铁片上修饰CuO?NWs/rGO复合材料的XRD图谱,虽然CuO晶??型的主要衍射峰20?=?35.5°,20?=?38.5°与Ti的特征峰重叠....


图2.5?(a)纯紋片和(b)?CuONWs/rGO的X民D图谱分析??

图2.5?(a)纯紋片和(b)?CuONWs/rGO的X民D图谱分析??

拉曼光谱被称为分析碳基材料结构的一个有效方法。近年来,在石墨稀和石??墨賺基复合材料的研究上,拉曼光谱被大量运用,通过D峰和G峰及其强度比值??Id/Ig来检验碳材料中的还原程度。图2.6为GO和CuONWs/rGO的拉曼光谱图,??由图可看出,GO和CuONWs/rGO中分别在....



本文编号:3941487

资料下载
论文发表

本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/huaxue/3941487.html


Copyright(c)文论论文网All Rights Reserved | 网站地图 |

版权申明:资料由用户c5d7f***提供,本站仅收录摘要或目录,作者需要删除请E-mail邮箱bigeng88@qq.com