某头孢制药废水的水质指纹特征

发布时间：2017-07-26 09:25

  本文关键词：某头孢制药废水的水质指纹特征

  更多相关文章： 头孢制药废水 水质指纹 pH 荧光增敏 荧光猝灭

【摘要】：荧光光谱与水样一一对应,被称为"水质指纹"。水质指纹可指示污染的出现,是新型水质预警方法。头孢类抗生素是国内外使用最多的抗感染药物,环境危害较大。我国头孢类药物的生产量在逐年增加。因此,研究头孢类废水的荧光指纹特征对监测该类废水的排放、保护水生生态环境具有重要的意义。本文研究了某头孢制药废水的水质指纹特征。该废水的水纹上有6个峰,按发射波长可以分为两组,第一组峰的激发波波长/发射波波长分别在230/350,275/350,315/350nm附近,第二组分别在225/405,275/410和330/420nm附近。激发波波长/发射波波长在230/350nm处的水纹峰强度最强。在同一组中,激发波长越小的峰的强度越大。pH明显影响头孢废水水纹中峰的位置和强度。随pH上升,第一组峰的强度会减少,产生荧光淬灭;第二组峰的强度增大,属于荧光增敏现象。这可能与废水中含有带碱性基团和酸性基团的荧光有机物有关。因为有机弱酸或弱碱的分子及其相应的离子就会在水中同时存在,而这两种形式由于空间结构的差异,发光性能上也可能差异显著。当pH变化时,造成了水中这两种型体的比例会发生变化,从而导致荧光光谱的形状和强度的改变。综上所述,该头孢制药废水具有独特的水质指纹特征。该水质指纹特征可作为水体中快速识别该制药废水存在的新方法。
【作者单位】： 清华大学环境学院环境模拟与污染控制国家重点联合实验室;
【关键词】： 头孢制药废水 水质指纹 pH 荧光增敏 荧光猝灭
【基金】：国家水体污染控制与治理科技重大专项项目(2014ZX07305001) 清华大学自主科研项目(20131089252) 国家(863)课题项目(2011AA060901)资助
【分类号】：X832;O657.3
【正文快照】： 引言荧光光谱是有机污染检测的新兴方法。水样的荧光光谱与水样一一对应[1],被称为“水质指纹”,简称水纹。不同行业废水的水纹差异明显,可以用来鉴别污水的种类,进而识别排放源[2]。制药废水是典型的难降解废水,环境危害大。根据2012年《中国环境年鉴》,我国制药废水年排放量

【相似文献】

中国期刊全文数据库 前3条

1 李再兴;张非非;左剑恶;王勇军;陈平;周崇晖;余忻;;SPE-RRLC-MS/MS法测定制药废水中青霉素G[J];环境工程;2013年03期

2 叶芝祥,江奇,成英,蔡铎昌;蒙脱石-石墨-聚氯乙烯复合电极测定制药废水中苯酚[J];分析试验室;2002年01期

3 ;[J];;年期

，

本文编号：575715