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五氧化二钽异质结的电阻开关特性研究

发布时间:2017-05-16 06:09

  本文关键词:五氧化二钽异质结的电阻开关特性研究,由笔耕文化传播整理发布。


【摘要】:伴随着科技的腾飞,人们对存储器性能的需求标准也越来越高,比如,高密度、高速度、非挥发性、低功耗等等。闪存占据了非易失存储器的主要市场,但是,闪存存在着速度慢的缺点,并且随着器件尺度的减小,其氧化层厚度也将减小,会引起散热差、漏电等问题,因此,其发展前景并不乐观。目前,人们在研究的非易失新型随机存储器兼有速度快和非易失的特点,主要包括磁存储器(MRAM)、铁电存储器(FRAM)、电阻存储器(ReRAM)、相变存储器(PRAM)等。ReRAM为最新发展的存储器,但是它具备速度快、低功耗、低成本、制作简单、与传统CMOS工艺能够很好的兼容的优势,因此ReRAM有很大的潜力成为下一代新型存储器。在1962年,科学家T. W. Hickmott通过研究Al/Al2O3/Au、Zr/ZrO2/Au等这种金属-介质层-金属的三明治结构的I-V特性曲线,首次开展了对阻变现象的研究。近几年,ReRAM逐渐成为存储器研究的焦点。 Ta205有杰出的化学性质和物理性质,Ta205越来越吸引人们注意,并在多个领域得到应用。例如,Ta205是一种具有高折射率的镀膜材料,其折射率为2.1。由于Ta205和Si之间具有高质量的界面和小的漏电流,通常在高品质的电容器中用作绝缘层。在电阻开关特性的研究领域中,由于Ta2O5稳定的电阻开关特性,是被应用研究的最多的材料之一。 在本论文中,我们使用溅射仪制备了Ag/Co/Ta2O5/Ag结构的异质结,并在其中发现了重复性良好的双极阻变,高低阻态之比高达104,其优良的性质将使其在阻变存储器中有良好的应用。通过改变异质结中Ta205的厚度和结面积的大小,我们发现,异质结的低阻态电阻并不随着Ta205的厚度和结面积的改变而有明显的变化,并由此得出该异质结的导电类型属于块体主导型。在进一步的实验中,我们使用金电极替代银电极,制备了Au/Co/Ta2O5/Au结构的异质结,在其中也发现了同样类型的双极阻变。因此排除了低阻态时银电极形成银灯丝的可能,推测阻变是由Ta205中氧离子迁移引起的。我们还制备了Ag/Ta2O5/Ag器件,并测量了其阻变性质,呈现出不稳定的补偿阻变,并且我们的样品不需要电成型过程,对于多层膜磁性测量证明CoO的生成。综合上述现象我们认为Co层的 加入会打破器件的平衡结构,Co很活泼,会在生长Ta205的时候自然氧化形成一层CoO,这样就在Ta2O5中会形成一个氧空位的空间梯度分布,代替了其他文献报道中的电成型过程。阻变的过程大致如下:当加正向电压时,氧空位会向负极方向聚集,从而使负极附近的导电性增强,加在负极附近的电场减小,此处我们称之为虚拟阴极,随着加电压的时间增长,虚拟阴极会逐渐往阳极移动,最终和阳极金属电极接触,从而使之由高阻态转变为低阻态,反之加负电压会使得氧空位反向移动从而导致氧空位通道断裂,使之由低阻态转变为高阻态。总之,我们的工作成功实现了稳定的双极阻变,得出阻变现象的机理是氧离子迁移导致的导电通道以及Co层加入的意义。
【关键词】:异质结 电阻开关特性 五氧化二钽 磁控溅射
【学位授予单位】:山东大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2014
【分类号】:TP333
【目录】:
  • 摘要8-10
  • ABSTRACT10-12
  • 第一章 绪论12-28
  • 第一节 Ta_2O_5的性质及其研究进展12
  • 第二节 异质结12-15
  • 1.2.1 异质结的性质12-14
  • 1.2.2 异质结的研究进展及其应用14-15
  • 第三节 新型非易失存储器的介绍15-18
  • 1.3.1 电阻式存储器(ReRAM,Resistance RAM)15-16
  • 1.3.2 铁电存储器(FeRAM,Ferroelectric RAM)16
  • 1.3.3 磁存储器(Magnetic RAM,MRAM)16-17
  • 1.3.4 相变存储器(Phase Change RAM,PCRAM)17-18
  • 第四节 电阻式存储器的研究及其进展18-26
  • 1.4.1 电阻开关效应的分类18-19
  • 1.4.2 电阻式存储器的材料19-21
  • 1.4.3 电阻开关效应的机制21-26
  • 第五节 本课题的研究动机和内容26-28
  • 第二章 样品的制备与表征28-44
  • 第一节 溅射镀膜28-38
  • 2.1.1 溅射镀膜的特点28-29
  • 2.1.2 溅射的基本原理29-36
  • 2.1.3 实验用磁控共溅溅射设备36-38
  • 第二节 超导量子干涉仪(SQUID)38-42
  • 第三节 交变梯度磁强计(AGM)42-44
  • 第三章 Ag/Co/Ta_2O_5/Ag异质结的电阻开关特性的研究44-58
  • 第一节 引言44
  • 第二节 样品制备工艺的介绍44-47
  • 3.2.1 衬底的处理44-45
  • 3.2.2 Ag/Co/Ta_2O_5/Ag异质结的制备45-47
  • 第三节 实验结果及讨论47-58
  • 3.3.1 Ag/Co/Ta_2O_5/Ag异质结的性质介绍47-51
  • 3.3.2 Ag/Co/Ta_2O_5(6nm)/Ag电阻开关特性机理的探究51-58
  • 第四章 Ag/Ta_2O_5/Ag异质结的电阻开关特性的研究58-60
  • 第五章 总结与展望60-62
  • 致谢62-63
  • 参加的学术会议63-64
  • 参考文献64-69
  • 学位论文评阅及答辩情况表69

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本文编号:369693

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