面向工艺设计的材料去除形素体积模型及其推理和评价研究
【学位单位】:合肥工业大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2003
【中图分类】:TH164
【部分图文】:
图3.3材料去除形素体积复制方法3,7.1模式模式是一个用来得到基本形状复制品的规则。库中所有的模式都是二维的并应用于材料去除形素体积的XY平面上。模式不包括任何的基本体积。模式的本地坐标系就是材料去除形素体积的坐标系。有两种主要的模式,即“平行等距阵列模式”和“圆环形状模式”,下文将采用它们的简称,即“平行阵列模式”和“圆模式”o这些模式包括特定模式元素的省滩蚜口编参选项。模式中的省略指省略其中元素的一个索引(对于圆模式)或两个索引(对于平行阵列模式)。偏移模式就是确定要偏移的元素并给出提供偏移方向和大小的矢量。材料去除形素体积中由模式确定的第一个位置就是其基革.澎{疾属性中的第一个材料去除形素体积。模式的属性将决定如何根据这个起始点来确定额外的位置。材料去除形雳体积寡才洋携嘱性中的第一个去除体积的拷贝就位于这些位置上。如果寡砂莽举疚属性中有多于一个的材料去除形素体积,那么在每一个
斜角端部的差别
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