退火温度对6.5%Si极薄带织构及磁性能的影响

发布时间：2020-10-15 09:23

　　 采用单辊甩带法制备了厚度为0. 03 mm的6. 5%Si极薄带,并在真空炉中进行了880℃和920℃的退火处理。利用XRD和EBSD研究了其在退火后的宏观和微观织构演变规律。结果表明:经单辊甩带制得的6. 5%Si极薄带织构主要由{001}100立方织构、{110}001 Goss织构和{112}111织构组成。随着退火温度的升高,λ纤维仍占主导地位,且晶粒尺寸逐渐增大。特别是在920℃退火时,{001}120和{001}100晶粒的尺寸优势逐渐增大,不利织构{111}110和{111}112逐渐减弱,且最终的磁感应强度B_(50)=1. 644 T,铁损耗P_(10/400)=5. 896 W/kg。
【部分图文】：

6.5%Si极薄带的宏观织构

6.5%Si极薄带的宏观织构

6.5%Si薄带以纯铁(99.98%)、纯硅(99.98%)为原料，首先用酸洗和碱洗清除原料表面的污垢，并用真空炉熔炼成母合金。然后在高纯度氩气保护气氛下将母合金熔化后，喷涂在水冷旋转铜辊上，形成快速凝固的薄带，通过调整铜辊速度、喷涂角度和熔体温度调控薄带的厚度、宽度和表面质量，最终制得厚度为0.03 mm，宽度为40 mm的6.5%Si薄带，如图1所示，可见，单辊甩带法制得的6.5%Si极薄带具有明亮的金属光泽和良好的表面质量。对6.5%Si薄带进行温度分别为880℃和920℃，升温速率为10℃/min，保温时间为60 min的退火处理。取金相样品，经抛光后在4%硝酸酒精溶液中腐蚀20 s，用光学显微镜观察其显微组织，并用电子背散射衍射(EBSD)方法研究其纵截面的微观织构。由于试样非常薄，不适合传统方法的抛光，为了获得高质量的材料表面，采用氩离子束对试样进行抛光。采用西门子D-5000X射线衍射仪测定原始样品和退火后样品的织构，得到3个不完全极图{110}、{200}和{211}，并用级数展开法(Imax=22)计算方位分布函数。将样品剪切成100 mm×30 mm规格，并使用TM-5000磁性能测量仪检测薄带的磁感应强度和铁损值。
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本文编号：2841989