分子/增压泵结构、性能及其应用的研究
发布时间:2022-01-12 20:16
分子/增压泵是最近实现产业化的新型分子泵,它采用国际首创的专利结构,结构简单,运行稳定,兼容中高真空,具有广阔的应用前景。本文在充分讨论分子/增压泵抽气原理的基础上,介绍了它的结构和性能,并对其主要性能指标进行了测试。测试结果表明,分子/增压泵在中高真空具有强劲抽速,并可以获得清洁真空。鉴于分子/增压泵已成功应用于真空镀膜领域并取得显著效果,本文深入探讨和研究了分子/增压泵在磁控溅射离子镀膜机和大型连续镀膜生产线中的应用,为其在更多真空领域的应用奠定了理论和实验基础。分子/增压泵是新型泵种,它在每个真空技术领域的推广应用都是具有开拓性的。本课题的完成,是其产品化的一小步,却是其发展壮大的一大步。
【文章来源】:合肥工业大学安徽省 211工程院校 教育部直属院校
【文章页数】:65 页
【学位级别】:硕士
【部分图文】:
图2一11分子/增压泵与涡轮分子泵转子对比示意图
火 火 火 火 火 火 火火、 ~~~P(Pa)图3一5分子蹭压泵抽速测试曲线 3.2.2 3.2.2分子/增压泵极限真空测试测试装置分子/增压泵极限真空测试装置如图3一6所示,分子/增压泵型号为MB20OB。图3一6分子/增压泵极限真空测试测试罩经超高真空清洗后,放入高真空除气炉中950℃除气一个小时,使材料内部H:含量降低2个数量级以上,从而有效地降低测试系统的本底负载。测试罩直接与分子/增压泵连接,前级泵采用LEYBOLD公司的 TRIVAC30C直联旋片泵,抽速SUs。全压力低真空测量采用 LEYBOLDDM12真空计,配用TTR301热电阻规管
2.70x10一5】 6.50x10一5 1.80x10礴】 5.00x10一3(2)残余气体质谱图3一7和3一8为烘烤前后系统的残余气体棒图。图3一7分子/增压泵烘烤前残余气体棒图图3一8分子/增压泵烘烤后残余气体棒图烘烤前总压强为 3x10一5砒 ar(3x10一,Pa),其中HZo分压和eo(NZ)分压最高,然后依次是02、eoZ、HZ、抢、He,碳氢化合物(exHy)为 5X10一,汕ar(sxlo一7Pa)。烘烤后总压强为sxlo一7mbar(sxlo一SPa),其中,HZO分压最高,接近总压强
【参考文献】:
期刊论文
[1]真空获得技术面临的挑战与对策[J]. 姜燮昌. 真空. 2007(02)
[2]柱弧离子镀制备Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC黑色硬质膜[J]. 马胜歌,姜翠宁. 真空科学与技术学报. 2006(04)
[3]大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(二)[J]. 龚建华,张永胜,柳俊文. 真空. 2006(03)
[4]大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(一)[J]. 龚建华,柳俊文,张永胜. 真空. 2006(02)
[5]分子/增压泵的结构、性能及其应用[J]. 储继国. 真空. 2006(01)
[6]气离溅射离子镀制氮化钛[J]. 董骐,罗蓉平,张守忠,杜建,钟钢,田凯,文学春,刘祥武. 真空科学与技术学报. 2005(01)
[7]涡轮分子泵参数化设计软件[J]. 钟亮,王晓冬,巴德纯. 真空. 2004(02)
[8]镀膜工艺与镀膜系统配置[J]. 伊恩·史蒂文森,弗兰克·泽蒙,戴尔·莫顿,冯学丽. 真空科学与技术. 2003(06)
[9]真空浸渍工艺的研究与应用[J]. 段永涛,张德翱. 真空. 2003(04)
[10]烷/炔气低温沉积TiC黑膜的研究[J]. 张海军. 真空. 2001(06)
硕士论文
[1]多重牵引分子泵的的性能测试及其应用[D]. 王雅婷.合肥工业大学 2003
本文编号:3585395
【文章来源】:合肥工业大学安徽省 211工程院校 教育部直属院校
【文章页数】:65 页
【学位级别】:硕士
【部分图文】:
图2一11分子/增压泵与涡轮分子泵转子对比示意图
火 火 火 火 火 火 火火、 ~~~P(Pa)图3一5分子蹭压泵抽速测试曲线 3.2.2 3.2.2分子/增压泵极限真空测试测试装置分子/增压泵极限真空测试装置如图3一6所示,分子/增压泵型号为MB20OB。图3一6分子/增压泵极限真空测试测试罩经超高真空清洗后,放入高真空除气炉中950℃除气一个小时,使材料内部H:含量降低2个数量级以上,从而有效地降低测试系统的本底负载。测试罩直接与分子/增压泵连接,前级泵采用LEYBOLD公司的 TRIVAC30C直联旋片泵,抽速SUs。全压力低真空测量采用 LEYBOLDDM12真空计,配用TTR301热电阻规管
2.70x10一5】 6.50x10一5 1.80x10礴】 5.00x10一3(2)残余气体质谱图3一7和3一8为烘烤前后系统的残余气体棒图。图3一7分子/增压泵烘烤前残余气体棒图图3一8分子/增压泵烘烤后残余气体棒图烘烤前总压强为 3x10一5砒 ar(3x10一,Pa),其中HZo分压和eo(NZ)分压最高,然后依次是02、eoZ、HZ、抢、He,碳氢化合物(exHy)为 5X10一,汕ar(sxlo一7Pa)。烘烤后总压强为sxlo一7mbar(sxlo一SPa),其中,HZO分压最高,接近总压强
【参考文献】:
期刊论文
[1]真空获得技术面临的挑战与对策[J]. 姜燮昌. 真空. 2007(02)
[2]柱弧离子镀制备Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC黑色硬质膜[J]. 马胜歌,姜翠宁. 真空科学与技术学报. 2006(04)
[3]大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(二)[J]. 龚建华,张永胜,柳俊文. 真空. 2006(03)
[4]大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(一)[J]. 龚建华,柳俊文,张永胜. 真空. 2006(02)
[5]分子/增压泵的结构、性能及其应用[J]. 储继国. 真空. 2006(01)
[6]气离溅射离子镀制氮化钛[J]. 董骐,罗蓉平,张守忠,杜建,钟钢,田凯,文学春,刘祥武. 真空科学与技术学报. 2005(01)
[7]涡轮分子泵参数化设计软件[J]. 钟亮,王晓冬,巴德纯. 真空. 2004(02)
[8]镀膜工艺与镀膜系统配置[J]. 伊恩·史蒂文森,弗兰克·泽蒙,戴尔·莫顿,冯学丽. 真空科学与技术. 2003(06)
[9]真空浸渍工艺的研究与应用[J]. 段永涛,张德翱. 真空. 2003(04)
[10]烷/炔气低温沉积TiC黑膜的研究[J]. 张海军. 真空. 2001(06)
硕士论文
[1]多重牵引分子泵的的性能测试及其应用[D]. 王雅婷.合肥工业大学 2003
本文编号:3585395
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/jixiegongcheng/3585395.html