微加工技术在高精度位移传感器中的应用

发布时间：2017-06-29 06:14

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【摘要】：随着科学技术的不断发展和人类生活水平的不断提高,近年来出现了各种各样的传感器。高精度位移传感器是一种新型的传感器,相对于其它大位移传感器,高精度位移传感器具有其独特的优势。这类传感器的结构比较多,其主要的特征是电极呈栅状,因此也被称为容栅式位移传感器。当电极之间发生平行移动时,相对覆盖面积发生变化,从而电容量随之发生改变,实现几何量的测量。因此,具有广泛的应用。 本文第一章首先介绍容栅式位移传感器的发展状况,然后着重阐述容栅式位移传感器工作原理。容栅式位移传感器可以分为直线型容栅位移传感器、圆形容栅位移传感器和圆筒型位移容栅传感器。 高精度位移传感器研发的主要过程是微加工工艺,第二章介绍了微加工原理、微加工发展历程以及本实验的主要步骤,包括磁控溅射、紫外曝光光刻、刻蚀。 第三章讲述磁控溅射。玻璃基片的洁净程度对实验有很大的影响,优化出清洗玻璃基片最佳方法。接着介绍了真空系统,给出磁控溅射实验真空获得的步骤。然后重点讲述了磁控溅射原理及其电源,最后给出磁控溅射镀膜的工艺流程。 第四章主要介绍紫外曝光。通过本实验每个步骤的注意事项,对图形光刻的各个参数进行优化,并说明每个参数对本实验的影响,总结出适宜本实验的每个参数。 第五章着重介绍刻蚀的机理。包括离子束刻蚀(IBE)和感应耦合等离子体刻蚀(ICP),并给出主要刻蚀流程。结合实验中所用的刻蚀机和高精度位移传感器膜层结构,总结出最佳刻蚀参数。最后对本论文总结,并作展望。
【关键词】：位移传感器 微加工工艺 磁控溅射 紫外曝光 刻蚀
【学位授予单位】：安徽大学
【学位级别】：硕士
【学位授予年份】：2014
【分类号】：TP212;TH16
【目录】：

• 摘要3-4
• Abstract4-8
• 第一章 绪论8-14
• 1.1 引言8-10
• 1.2 容栅式位移传感器的工作原理10-14
• 第二章 微加工制作高精度位移传感器流程14-26
• 2.1 高精度位移传感器制作与微加工14-16
• 2.2 微电子加工工艺16-26
• 2.2.1 微加工发展历程16-17
• 2.2.2 薄膜的生长17-19
• 2.2.3 掩模版的制作19-21
• 2.2.4 光刻工艺简介21-23
• 2.2.5 刻蚀工艺介绍23-26
• 第三章 磁控溅射实验26-36
• 3.1 玻璃基片的清洗26-28
• 3.2 真空系统简介28-31
• 3.3 磁控溅射镀膜31-36
• 3.3.1 磁控溅射原理31-32
• 3.3.2 磁控溅射电源32-33
• 3.3.3 磁控溅射镀膜工艺流程33-36
• 第四章 光刻实验36-42
• 4.1 甩胶过程36-40
• 4.1.1 紫外光刻胶37-39
• 4.1.2 甩胶参数的确定39-40
• 4.2 紫外曝光40-41
• 4.3 显影41-42
• 第五章 刻蚀实验42-50
• 5.1 离子束刻蚀(IBE)42-47
• 5.1.1 离子束刻蚀机结构43-45
• 5.1.2 离子束刻蚀参数的确定45-47
• 5.2 感应耦合等离子体刻蚀(ICP)47-50
• 第六章 总结50-51
• 6.1 总结50
• 6.2 展望50-51
• 参考文献51-55
• 致谢55
• 攻读硕士学位期间申请的专利55

【参考文献】

中国期刊全文数据库 前10条

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本文编号：496870