聚酰胺-胺(PAMAM)树状大分子的合成与硅阻垢性能研究
发布时间:2023-08-18 18:40
以乙二胺、丙烯酸甲酯为原料,合成了0.5~2.0代树枝状大分子聚酰胺-胺(PAMAM)。并通过红外谱图和核磁谱图分析、验证了合成产品的结构。采用静态阻硅垢实验考察了在60℃下,0.5~2.0G PAMAM对模拟三元复合驱体系含硅溶液的阻硅垢效果,实验结果表明,24 h后空白溶液中溶解硅的质量浓度为210 mg/L左右,加入1.0G PAMAM后溶解硅的质量浓度分别提高到500 mg/L左右。通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析了含硅溶液空白硅垢和添加了1.0G PAMAM硅垢,通过实验结果推断,含端氨基的1.0G与2.0G产品的阻硅垢机理是阻碍了液体中硅垢晶体生长过程。
【文章页数】:6 页
【文章目录】:
1 实验部分
1.1 原料与仪器
1.2 PAMAM的合成
1.2.1 0.5G PAMAM的合成
1.2.2 1.0 G PAMAM的合成
1.2.3 产品的纯化
1.3 产品的红外和核磁谱图分析
1.4 产品对模拟三元复合驱体系硅酸盐垢的阻硅垢性能评价
1.5 硅垢的扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析
2 结果与讨论
2.1 PAMAM的红外谱图分析
2.2 PAMAM的核磁谱图分析
2.3 拟三元复合驱体系硅酸盐垢的阻垢效果
2.4 对硅垢的扫描电子显微镜(SEM)分析
2.5 对硅垢的X射线衍射(XRD)分析
3 结 论
本文编号:3842736
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1 实验部分
1.1 原料与仪器
1.2 PAMAM的合成
1.2.1 0.5G PAMAM的合成
1.2.2 1.0 G PAMAM的合成
1.2.3 产品的纯化
1.3 产品的红外和核磁谱图分析
1.4 产品对模拟三元复合驱体系硅酸盐垢的阻硅垢性能评价
1.5 硅垢的扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析
2 结果与讨论
2.1 PAMAM的红外谱图分析
2.2 PAMAM的核磁谱图分析
2.3 拟三元复合驱体系硅酸盐垢的阻垢效果
2.4 对硅垢的扫描电子显微镜(SEM)分析
2.5 对硅垢的X射线衍射(XRD)分析
3 结 论
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