调制中频高功率脉冲磁控溅射电源的设计

发布时间：2017-10-21 07:51

  本文关键词：调制中频高功率脉冲磁控溅射电源的设计

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【摘要】：文章指出叠加直流的HPPMS技术有直流部分占空比较高和不可控制2大缺点,在做沉积薄膜实验时无法提供溅射所需的高功率,导致空比较低,溅射效率稍低的高功率脉冲产生。为了解决问题,需要研制一台电源,并且该电源可以用中频调制脉冲高功率磁控溅射MPP(Modulated pulsed power),普通高功率磁控溅射系统中的直流部分可以用低频脉冲来代替,尽可能减少低频脉冲占空比并且可以确保充分预处理,使高功率脉冲占空比尽可能最大,提高系统的溅射效率。
【作者单位】： 装甲兵技术学院通信教研室;
【关键词】： 调制脉冲 磁控溅射 HPPMS MPP
【分类号】：TN86
【正文快照】： 近年来,国外发展了HPPMS(高功率脉冲磁控溅射)技术,并且这种技术具备一定高的离化率和很好的薄膜性能,因此在技术领域有一定的影响力。HPPMS的峰值功率高出普通磁控溅射达2个数量级;溅射材料离化率更是高达70%以上。高功率脉冲磁控溅射技术目前在国内外得到了广泛的研究。本文

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本文编号：1072156