用于AC-PDP保护层的六硼化镧薄膜的制备与性能研究

发布时间：2018-09-10 13:29

【摘要】：采用丝网印刷法在PDP的传统Mg O保护层上制备了六硼化镧薄膜。改变工艺参数,测试了La B6/Mg O薄膜的表面形貌和光学性能,并对透明的La B6/Mg O薄膜在Xe/Ne混合气体中的放电性能进行了测试。实验结果表明,采用400目丝网和球磨后的La B6粉末有利于提高La B6/Mg O薄膜的透过率,相比于原有的Mg O衬底,透过率达到90%以上。放电测试结果表明,印刷了La B6薄膜的Mg O+La B6样品的放电性能优于传统的Mg O保护层,其中着火电压降低了7%左右,放电延迟降低了9%左右。
[Abstract]:La B6/Mg O thin films were prepared by screen printing on the traditional Mg O protective layer of PDP. The surface morphology and optical properties of La B6/Mg O thin films were measured by changing the process parameters. The discharge performance of transparent La B6/Mg O thin films in Xe/Ne mixed gas was tested. The results showed that the La B6 thin films were prepared by 400 mesh screen and ball milling. Compared with the original Mg O substrate, the transmittance of La B6/Mg O thin films is over 90%. The results of discharge test show that the discharge performance of Mg O+La B6 samples printed with La B6 thin films is better than that of the traditional Mg O protective layer, in which the ignition voltage is reduced by about 7% and the discharge delay is reduced by about 9%.
【作者单位】： 电子科技大学光电信息学院;
【基金】：中央高校科研基本业务费项目(ZYGX2010J062) 四川省科技创新苗子工程项目
【分类号】：TN873.94

【参考文献】

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【共引文献】

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本文编号：2234580