激光通信系统中多波段滤光片的研究
本文关键词:激光通信系统中多波段滤光片的研究
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【摘要】:本课题研制的滤光片主要应用于激光通信系统中。针对激光通信系统中光学系统对滤光片的特殊要求,选取Ti3O5和SiO2分别作为高低折射率薄膜材料,在直径φ25mm的K9玻璃基底材料上,通过膜系设计软件TFCalc进行双面设计。在镀制过程中,采用电子束加热蒸发方式,配合离子辅助淀积技术,利用石英晶控控制法对膜层厚度进行监控,通过反复优化各项工艺参数,制备出在532nm透过率为97.6%、808nm透过率为0.3%、1064nm透过率为97.8%、1550nm透过率为97.8%的多波段滤光片。在研究过程中,通过修正Tooling Factor解决了光谱曲线向短波漂移的问题;通过去除残余蒸镀量,解决了通带出现波纹的问题。通过各项测试证明,该滤光片满足光学系统的使用要求。
【关键词】:多波段滤光片 电子束蒸发 石英晶控控制 修正因子 残余蒸镀量
【学位授予单位】:长春理工大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2015
【分类号】:TN929.1
【目录】:
- 摘要4-5
- ABSTRACT5-7
- 第一章 绪论7-11
- 1.1 现代光学薄膜的发展现状7-8
- 1.2 激光通信的发展现状8-9
- 1.3 论文研究的主要内容9-11
- 第二章 光学薄膜的基本理论11-20
- 2.1 光学薄膜特性的理论计算11-15
- 2.2 有效界面法15-18
- 2.3 高反射带带宽的计算18-20
- 第三章 多波段滤光片的工艺参数研究及膜系设计20-36
- 3.1 激光通信系统中多波段滤光片的技术要求20
- 3.2 镀膜材料的选取20-21
- 3.3 工艺参数的研究21-23
- 3.4 薄膜材料的折射率和Tooling Factor23-28
- 3.5 多波段滤光片的膜系设计28-36
- 第四章 薄膜沉积设备36-45
- 4.1 真空镀膜设备36-37
- 4.2 真空系统37-39
- 4.3 蒸发技术39-41
- 4.4 监控技术41-44
- 4.5 测试技术44-45
- 第五章 多波段滤光片的制备与检测分析45-52
- 5.1 多波段滤光片的制备工艺流程45-46
- 5.2 实验过程中遇到的问题与解决方法46-50
- 5.3 激光通信系统中多波段滤光片的测试50-51
- 5.4 环境测试51-52
- 结论52-53
- 致谢53-54
- 参考文献54-55
- 附录55
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,本文编号:842387
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