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MEMS射频同轴线的仿真与工艺研究

发布时间:2017-09-21 14:26

  本文关键词:MEMS射频同轴线的仿真与工艺研究


  更多相关文章: 同轴传输线 光刻 电镀 SU- RF MEMS


【摘要】:以SU-8方形柱作为支撑衬底,初步设计中心频率为38GHz空气填充的微型矩形同轴线,通过HFSS电磁仿真软件对设计的结构进行模拟仿真与优化,并结合实际加工工艺和测试条件,最终确定中心同轴的横截面为200μm×200μm,外壁内表面的横截面为500μm×500μm,对支撑衬底尺寸进行最优化模拟仿真,确定SU-8矩形支撑衬底宽度为200μm.采用SU-8紫外光刻工艺并结合铜的电镀工艺进行微型同轴线结构的加工.利用微波探针测试台对其传输性能进行测试,测试结果显示该微型同轴线在中心频率处回波损耗S11在-30dB以下,插入损耗S12参数为-0.3dB.该工艺方法加工的同轴传输线具有带宽大、介质损耗小、辐射损耗小和抗干扰强等优点,可用于高性能射频和微波电路.另外,它的制作工艺可与其他射频和微波器件及集成电路工艺兼容,便于与射频和微波电路集成.
【作者单位】: 中北大学电子测试技术重点实验室;
【关键词】同轴传输线 光刻 电镀 SU- RF MEMS
【基金】:国家自然科学基金资助项目(61401405);国家自然科学基金资助项目(51475438) 山西省基础研究项目(2014011021-4) 新世纪优秀人才支持计划资助项目(130951862)
【分类号】:TN813
【正文快照】: 0引言随着射频(RF)、微波技术的迅速发展,国际上诸多知名科研机构和高校都将RF MEMS视为重点研究方向.RF MEMS技术中多采用的是平面电路技术,其中的射频、微波信号传输及器件互联多采用微带、共面波导、带状线等平面传输线[1],当集成度较高时,这些传输、互联技术就暴露出诸多

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