多层金属电源线地线网络拓扑结构的IR-drop分析方法

发布时间：2017-09-22 06:19

  本文关键词：多层金属电源线地线网络拓扑结构的IR-drop分析方法

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【摘要】：提出了一种电源/地线(P/G)网络压降(IR-drop)静态分析方法.该方法探索了多层金属立体P/G网络结构,通过输入各金属层的坐标和通孔(Via)的工艺规则,分析不同多层金属P/G网络的拓扑结构对IR-drop的影响.实验结果表明,文中方法的压降评估结果与SPICE仿真结果相比有着高度的一致性,平均误差小于0.4%,且算法时间复杂度与通孔数目成线性关系.并且指出中间层金属的拓扑结构对IR-drop的分布和大小有重要影响.
【作者单位】： 中国科学院电子学研究所可编程芯片与系统研究室;中国科学院大学;
【关键词】： 电源/地线网络 多层 压降 通孔
【基金】：国家自然科学基金(No.61271149)
【分类号】：TN86
【正文快照】： x引言 ^ ^ IR-drop是影响电源信号完整性的关键因素之一,随着半导体工艺进入深亚微米阶段,芯片密度逐渐增加,P/G网络将承载更大的电流,并且随着互连线宽减小而导致的电阻增加,更大的IR-drop会对电路的工作性能产生影响, 导致逻辑麟和时钟偏移,甚至使芯片失效[1’2]. P/G网络模

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本文编号：899249