图案化聚合物表面的形状记忆特性

发布时间：2018-04-08 23:11

  本文选题：微加工　切入点：双光束干涉　出处：《吉林大学学报(理学版)》2017年03期

【摘要】：利用纳秒激光双光束干涉的光刻方法,在光刻胶层制备具有周期性的一维光栅结构样品,并研究其形状记忆特性.结果表明:显影后的样品在环境温度为195℃及压力的作用下,光栅形貌发生改变,光栅垂直高度降低,衍射光强减弱;当样品冷却至室温时,光栅形貌可维持不变;当样品的环境温度为120℃时,光栅形貌恢复原状,实现微观形状记忆功能.
[Abstract]:Using nanosecond laser double-beam lithography method, one-dimensional grating structure samples with periodicity were prepared in the photoresist layer, and their shape memory characteristics were studied.The results show that under the influence of ambient temperature of 195 鈩，

本文编号：1723764