电大尺寸目标的高频方法电磁散射特性分析及快速成像技术研究

发布时间：2021-08-19 14:11

　　随着通信技术的发展,各类电子通信设备在功能上和结构上都更加多样化,电磁波频谱的需求也日益剧增,且工作频率也向着更高的频率扩展。基于局部性近似且不考虑目标之间相互耦合作用的高频方法是分析电大目标的电磁散射特性的主要手段。首先,本文对高频方法中常用的物理光学方法和弹跳射线方法的基本原理进行了论述,其次使用这两种方法对具有单次和多次反射结构的电大金属目标的雷达散射截面进行了研究。在此基础上,研究了高频方法在金属和介质混合目标主要是金属表面覆盖介质情况的电磁散射特性分析中的应用。对于多层均匀薄介质涂覆的情况,利用广义反射系数求解介质表面反射总场,再利用物理光学方法即可求出多层介质涂覆目标的雷达散射截面。当金属表面涂覆不均匀厚度介质以及非均匀介质目标时,提出了一种基于四面体剖分的弹跳射线方法,该方法除了考虑射线在目标表面的多次反射之外,还考虑了透射射线在介质内部的传播,最后求出目标总的散射场。通过一组算例对该方法的正确性进行了验证,拓展了弹跳射线方法在实际工程中的适用性。另外,还研究了高频方法在逆合成孔径雷达（ISAR）成像中的应用,分析了目标的远区散射场与其形状函数之间的关系。针对传统的成像过... 

【文章来源】：南京理工大学江苏省 211工程院校

【文章页数】：70 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

1目标表面电磁散射

ｎｘＥ?＝?０??－．－７７?Ｘ?／／?＝?２？?Ｘ?／／．??，为ＰＥＣ表面的入射磁场。??，用目标表面感应电流和感应磁流计算远区散射场，相应的表达Ｍ?＝Ｅｘｎ??于理想导体，其表面感应电流和磁流为：??ＭＰＯ＝Ｅｘｆ，?＝?〇ｊ２，）ｘ砍亮区??Ｊｐ〇ｉ〇?暗区．７）和式（２＿３＿８）带入式（２．３＿４），可推导出金属表面Ｐ０远场散射公式Ｅｓ?＝?ｊｋＺｆ?ＪＫ，ＪＪ?Ｓｘ（ｓｘＪｐ〇）ｅ＾＇ｄＳ??？Ａ／．的Ｓ表示照明面，物体表面被入射波照射部分的场非零，而没有此，通常将物体表面分为亮区和暗区。??

电大尺寸目标的ａ频方法电磁散射特用物理光学方法计算之前需要对目标表目标表面遮挡判别是物理光学方法前处面片进行一个遮挡判别。如果目标表面磁流，总场不为零，定义为亮区；反之，射场。??个多边形面元（如三角形、四边形等）来射电磁波照射到面元上时看面元是否被和多重遮挡。??外形结构较为简单的目标，通过剖分面

【参考文献】：
期刊论文
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本文编号：3351561