基于相干光的微电子光学测量系统技术分析

发布时间：2021-10-10 22:38

　　目前集成电路对微电子测量技术提出了较高要求,其中光学关键尺寸作为微电子测量中的关键,其分辨率与测量极限问题表现得较为突出。本文基于相干光技术,详细研究相干光技术在微电子光学测量中的应用,并提出一套完整的系统方案,希望为进一步提高微电子测量精准度寻找出更有效的方法。 

【文章来源】：电子元器件与信息技术. 2020,4(09)

【文章页数】：2 页

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系统结构

【参考文献】：
期刊论文
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本文编号：3429282