TFT-LCD残影不良的研究与改善

发布时间：2017-09-20 22:20

  本文关键词：TFT-LCD残影不良的研究与改善

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【摘要】：影像残留是TFT-LCD,特别是TN型产品常见的不良,对产品良率影响很大。本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析。发现产品设计时Data线两侧段差过大,是导致残影发生的主要原因,通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效降低残影,实验得出配向膜膜厚高于110nm,摩擦强度高于5.5N·m时无残影发生。通过控制配向膜工程与摩擦工程间的延迟时间在5h,摩擦工程与对盒工程间的延迟时间在10h,并且严格管控ITO偏移量可以有效减少Panel内部电场,从而降低残影。通过以上措施,对于15.6HD产品,良率提升了10%,为企业高效生产奠定基础。
【作者单位】： 合肥鑫晟光电科技有限公司;
【关键词】： 残影 扭曲向列型 配向弱区 内部电场
【分类号】：TN873.93
【正文快照】： (Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co.Ltd,Hefei 230012,China)1引言伴随着显示科技的发展,液晶显示器(LCD)以其低工作电压、低功耗、低辐射、以及轻薄美观等优势,为大众所喜爱,已成为市场的主流[1-2]。随着人们对液晶显示器认知度的逐渐提高,对于显示性能也提出了，

本文编号：890727