TFT-LCD高温光照漏电流改善研究
本文关键词:TFT-LCD高温光照漏电流改善研究
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【摘要】:造成TFT不稳定的问题点一般认为有两种:一是沟道内半导体材料内部的缺陷,另一个是栅极绝缘层内的或是绝缘层与沟道层界面的电荷陷阱。TFT-LCD在长期运行时由于高温及光照的影响会导致漏电流增加,进而对TFT造成破坏。分析研究表明,TFT沟道在刻蚀完成后,沟道内部存在一定的缺陷以及绝缘层与沟道层界面存在电荷陷阱,平面电场宽视角核心技术-高级超维场转换技术型产品由于设计的原因面临着如果进行氢处理会导致与其与氧化铟锡中的铟发生置换反应,导致铟的析出,所以无法采用氢处理。理论分析表明Si-O键稳定,本文主要介绍通过氯气/氧气和六氟化硫/氧气对TFT沟道进行处理改善高温光照漏电流。结果表明,通过氯气/氧气和六氟化硫/氧气处理TFT沟道后,高温光照漏电流从18.19pA下降到5.1pA,可见氯气/氧气和六氟化硫/氧气对沟道处理可有效改善高温光照漏电流。
【作者单位】: 北京京东方光电科技有限公司;
【关键词】: 高温光照漏电流 TFT沟道 TFT特性 沟道厚度
【基金】:京东方研发基金~~
【分类号】:TN873.93
【正文快照】: 1引言随着当今薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)及其加工工艺的不断发展,TFT器件在各个领域得到了更加广泛的应用,部分领域TFT器件的工作环境条件比较恶劣,比如在高温的环境下,进而对TFT-LCD的性能要求更加严格,以A-Si为基础,采用不同的几何结构和不同的工艺[1],已经研制出了种
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,本文编号:988600
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