2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性

发布时间：2017-10-25 19:22

  本文关键词：2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性

  更多相关文章： 光学加工 磁控溅射 表面改性 RB-SiC 大口径

【摘要】：为了消除RB-SiC反射镜直接抛光后表面存在的微观缺陷,降低抛光后表面的粗糙度,提高表面质量,针对大口径SiC的特性,选择Si作为改性材料,利用磁控溅射技术对2m量级RB-SiC基底进行了表面改性。在自主研发的Φ3.2m的磁控溅射镀膜机上进行基底镀膜,利用计算机控制光学成型法对SiC基底进行了抛光改性。实验结果表明,改性层厚度达到15μm;在直径2.04m范围内,膜层厚度均匀性优于±2.5%;表面粗糙度由直接抛光的5.64nm(RMS)降低到0.78nm。由此说明磁控溅射技术能够用于大口径RB-SiC基底的表面改性,并且改性后大口径RB-SiC的性能可以满足高质量光学系统的要求。
【作者单位】： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室;
【关键词】： 光学加工 磁控溅射 表面改性 RB-SiC 大口径
【基金】：国家自然科学基金资助项目(No.60478035)
【分类号】：TH743
【正文快照】： 1引言现代光学技术突飞猛进的发展,以及人们对地及对深空进行高分辨率探测的迫切需求,促使空间望远镜向着高分辨率、宽视场的方向发展。为了获得更高的角分辨率、更多的光通量以及更高的信噪比,需要制造更大口径的望远镜。空间望远镜通常采用由主镜和次镜组成的反射式光学系统，

本文编号：1095171