一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法

发布时间：2017-10-29 10:03

  本文关键词：一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法

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【摘要】：结合光学加工中材料去除的卷积模型和功率谱密度函数,建立了描述CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的数学模型——平滑谱函数.利用Rigid Conformal磨盘抛光620mm口径微晶平面玻璃,通过计算平滑谱函数曲线,将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为归一化且无量纲的频谱曲线.计算结果表明平滑谱函数曲线能以数值大小评价CCOS抛光工艺对不同频率误差的抑制能力.
【作者单位】： 中国科学院光电技术研究所;中国科学院大学;
【关键词】： 光学加工 平滑谱函数 功率谱密度 中高频误差 卷积模型
【基金】：国家自然科学基金(61378054)资助
【分类号】：TH74;TG580.692
【正文快照】： 0引言现代光学制造工程具有显著的极端制造特征,即在极端技术条件要求的背景下,制造极端尺度、极高功能器件或功能系统的大科学工程[1].我国目前正面临着完成大口径望远镜系统、纳米尺度光刻系统和高功率激光系统等典型极端光学研制工程的任务.在极端光学系统中,光学元件表面

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本文编号：1112475