基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法

发布时间：2017-11-24 22:19

  本文关键词：基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法

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【摘要】：针对大角度(大于50°)衍射光学元件低成本、批量化制备的需求,提出一种基于纳米压印技术的制备方法.首先利用光学曝光技术或电子束直写技术制备衍射元件的原始母板,然后将原始母板的结构通过纳米压印过程复制到压印胶上,完成衍射光学元件的制备.由于纳米压印母板可以多次重复使用,降低了制作成本,提高了效率.用该方法制备了不同特征尺寸(最小为250nm,衍射全角为70°)的衍射光学元件,具有良好的衍射效果,实现了对高深宽比浮雕结构的高保真复制.该技术可实现从微米到纳米跨尺度兼容的衍射光学元件的高保真、低成本、批量化制备.
【作者单位】： 中国科学院光电技术研究所;
【基金】：国家自然科学基金(No.61505204)资助~~
【分类号】：TH74
【正文快照】： 0引言衍射光学元件(Diffractive Optical Element,DOE)是以光的衍射理论为基础,由计算机辅助设计,运用各种微细加工工艺,在传统光学器件表面刻蚀产生多台阶或连续形状的浮雕结构,具有汇聚、成像、分光等光束整形作用的一类光学元件[1-3].由于其体积小、设计灵活、衍射效率高等

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本文编号：1223818