基于X光移动光刻技术的PMMA微透镜阵列制备

发布时间：2017-12-23 03:05

  本文关键词：基于X光移动光刻技术的PMMA微透镜阵列制备　出处：《红外与激光工程》2016年06期 　论文类型：期刊论文

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【摘要】：微透镜阵列的制备已经成为微光学领域的研究热点。利用两次X光移动光刻技术,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为正光刻胶,在PMMA基板上制造了微透镜阵列,并对其制作原理进行了详细说明。设计了制备微透镜阵列用的掩膜图形,并通过掩膜图形模拟仿真,预测了微透镜在两次移动曝光显影后的形状。第一次X光移动光刻后,理论上会得到半圆柱状三维结构;第一次光刻后将掩膜板旋转90°,进行第二次移动曝光光刻,最终在PMMA基板上制备了面积为10 mm×10 mm的30×30个微透镜阵列,阵列中每个微透镜的直径约248μm、厚度约82μm。同时也研究了X光曝光量与PMMA刻蚀深度之间的关系。微透镜阵列形貌测试表明此种制备微透镜阵列的新方法是可行的。
【作者单位】： 上海应用技术大学理学院;日本立命馆大学微系统系;
【基金】：国家自然科学基金(51035005) 上海应用技术学院光电精密检测平台建设项目(10210Q140005);上海应用技术学院引进人才启动基金(YJ2014-03)
【分类号】：TH74
【正文快照】： 0引言光学成像透镜,作为光学系统的重要元件之一,在天文、军事、交通、医学、艺术等领域扮演着重要角色。随着科技的进步和发展,光学系统体积逐渐向小型化和集成化方向发展,体积较大、结构较复杂的传统透镜已不满足要求,而缩小透镜尺寸而制备出微透镜和微透镜阵列顺应了光学系

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本文编号：1322144