基于光谱椭偏仪的纳米光栅无损检测

发布时间：2018-05-13 01:31

  本文选题：纳米压印 + 光栅　； 参考：《物理学报》2014年03期

【摘要】：本文制备了硅基和光刻胶两种材料的纳米光栅,利用光谱椭偏仪对该纳米结构的光栅进行了测量,随后利用建立的拟合模型对其测量数据进行了拟合,结果证明了运用该仪器进行纳米光栅结构无损检测的可行性,在入射角60?,方位角75?的测量条件下,纳米结构关键尺寸、侧壁角等三维形貌参数的测量精度最大可达99.97%,该技术对于无损检测有着一定的推动意义.
[Abstract]:In this paper, nano-gratings of silicon-based and photoresist materials were prepared, the grating of the nanostructure was measured by spectroscopic ellipsometry, and the measured data were fitted by the established fitting model. The results show that it is feasible to use this instrument for nondestructive testing of nanocrystalline grating structures at the incident angle of 60 and the azimuth angle of 75? The measurement accuracy of the three dimensional parameters such as the key size and the side wall angle of the nanostructure can reach 99.97. This technique has a certain significance for nondestructive testing.
【作者单位】： 华中科技大学光学与电子信息学院;武汉科技大学理学院;华中科技大学数学制造装备与技术国家重点实验室;
【基金】：国家自然科学基金(批准号:61076042,60607006) 国家重大科学仪器设备开发专项(批准号:2011YQ16000205) 国家高技术研究发展计划(批准号:2011AA03A106)资助的课题~~
【分类号】：TH744

【参考文献】

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【共引文献】

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