基于超振荡透镜的非标记超分辨光学显微技术
【学位单位】:重庆大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2018
【中图分类】:TH74
【部分图文】:
机光重构显微成像技术、受激发射损耗显微成像技术、结构光照明、基于超振荡效应的共聚焦扫描显微成像技术。 近场扫描显微成像技术研究现状928 年,Edward Synge 提出光透过一个刻有亚波长小孔的薄的、不透照明位于距该金属板亚波长距离的样品,通过扫描成像,得到一个破衍射极限的图像[4]。上世纪 80 年代初由 Pohl 等人在实验上得以实纪九十年代,Keilmann 等人提出了一种散射型的近场扫描显微技术,20分析计算了探针与样品之间相互作用,当入射波长为 10μm,探针,探针与样品间距为 100nm 时,在实验上得到了 λ/100 的成像分辨率年来,近场扫描显微成像技术衍生出很多新的方法。2014 年,Maga 研究小组提出一种基于双曲透镜阵列的光学显微技术,该小组将双置在光学显微镜中,从而放大小于衍射极限的样品细节,如图 1.1(成像分辨率提高到未放置双曲透镜阵列前的 10 倍以上,如图 1.1(在入射波长为 633nm 时,成功分辨出孔直径为 60nm,中心距离为 7[33]。
重庆大学硕士学位论文年,LIANG PAN 研究小组提出一种用于近场光学光刻和成像元耦合模型 PPL,如图 1.2(a)所示。与传统的激发局部狭缝或的方法不同,该模型采用等离子体激元与样品在竖直方向上直,具有很高的耦合效率,可以用作反射式的近场成像。在波长下,经该结构得到的半高全宽 FWHM 为 17nm 的聚焦光斑,如表面等离子体激元耦合模型用作近场成像,照明光源由结构后面反射,在结构后方进行探测,成功分辨了两个直径为 60nm 的两个小孔,如图 1.2(c、d)所示[34]。
图 1.3 随机光重构显微成像技术。(a)随机光重构显微成像技术原理示意图;(b)单个点扩展函数的荧光图像;(c)对一个荧光开关分子 20 次成像定位实验结果图(标尺为 20nm);(d)对一个荧光开关分子 20 次成像定位实验结果矫正后效果图;(e)中心位置标准差的柱状图Fig.1.3 Stochastic optical reconstruction microscopy(STORM). (a) Schematic diagram of theprinciple of STORM; (b) The point spread function of single switch; (c) The center position of asingle switch for 20 image cycles; (d) The center position of a single switch for 20 image cycles aftercorrection. A histogram of the standard deviation of the central position.2008 年,zhuang 研究小组在之前的基础上[36],提出了三维随机光重构显微成像技术,采用的方法是在成像路径上加入一个柱面镜,如图 1.4a 所示,结果证明,随着在 Z 方向距离的变化,荧光图像的椭圆率以及椭圆的方向都在发生变化。其中在等效焦平面处,为圆形光斑,当样品与物镜的距离大于等效焦距时,椭圆长轴沿 X 轴方向,反之,当样品与物镜的距离小于等效焦距时,椭圆长轴沿 Y 轴方向,利用二维椭圆高斯拟合公式,可以得到峰值位置和沿 XY 方向的宽度 Wx、Wy。该小组以固定的用 Alexa 647 标记的链霉亲和素的单个分子进行成像,其中
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本文编号:2860076
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