对基于拼接干涉术的同步辐射镜测量技术的研究

发布时间：2021-07-13 16:42

　　随着同步辐射光源和自由电子激光器相关技术的发展和光束质量的提升,对用于转递和聚焦光束能量的X光反射镜的指标要求也逐渐提高。为避免引入额外的波前误差,反射镜面形高度误差均方根值的要求已逼近至亚纳米量级。如此苛刻的面形要求对X光反射镜的测量工作带来了极大的困难和挑战。除了在各国同步辐射光源得到广泛使用的长程轮廓仪等基于角度测量的轮廓扫描仪器之外,基于激光干涉仪的拼接干涉技术也发展为测量同步辐射镜的一种有效手段。文中主要介绍了近期笔者等为测量X光反射镜而开发的拼接干涉平台。利用这一测量平台,研究了在不同的拼接参数下的多种拼接模式。着重讲述了其中纯软件拼接模式的基本原理和实际测量。用实测结果与不同测量仪器和不同研究机构的结果进行比对,验证了拼接干涉测量用于检测同步辐射镜的有效性,并展示了此拼接平台的测量表现。根据所得的测量数据看来,使用纯软件拼接模式来测量X光平面反射镜时,测量重复性的均方差值可以达到0.1 nm左右;而测量X光双曲柱面镜时（曲率半径的变化范围为50～130 m）,测量重复性的均方差值为0.2～0.3 nm。此结果基本满足平面和接近平面（曲率半径大于50 m）的同步辐射镜常规检... 

【文章来源】：红外与激光工程. 2020,49(03)北大核心EICSCD

【文章页数】：9 页

【参考文献】：
期刊论文
[1]拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势[J]. 刘丁枭,盛伟繁,王秋实,李明.  光学精密工程. 2016(10)
[2]平面子孔径拼接测量研究[J]. 丁凌艳,戴一帆,陈善勇.  光学精密工程. 2008(06)
[3]大口径平面和非球面光学表面的纳米和纳弧度精度的测量——长行程外形仪的原理应用和发展[J]. 钱石南.  激光与光电子学进展. 2008(05)
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本文编号：3282423