射流抛光中的流场特性研究

发布时间：2017-08-13 23:13

  本文关键词：射流抛光中的流场特性研究

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【摘要】：为了给出射流抛光系统的优化设计参数,从理论上分析了冲击射流流场的结构特点,建立了工件壁面上的速度、压强与冲击角度、射流出口速度以及冲击距离的数学关系。就不同参数对射流流场分布的影响进行了定量计算,结果表明,工件壁面上的压强和速度与出口压强和速度成线性正比关系。当冲击距离大于9.6d(d为射流喷口的直径)时,工件壁面压强和速度随冲击距离的增大而减小,冲击距离增加到15d时,壁面压强最大值减小到0.54p0(p0为射流出口处的压强)。工件壁面压强和速度随冲击角度的减小而减小,当入射角为90°、60°和45°时,分别得到壁面压强最大值ps=0.95 p0,0.74p0,0.475p0,上游速度最大值um02=0.96u0,0.8u0,0.67u0(u0为射流出口处的速度)。
【作者单位】： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心;四川大学电子信息学院;
【关键词】： 冲击射流 流场特性 壁面压强
【基金】：四川省教育厅创新团队资助项目(13TD0048)
【分类号】：TG580.692;TH74
【正文快照】： 0引言大型激光系统对所使用的大口径光学元件的表面质量要求非常高,从而可确保激光系统的有效运行。要想进一步提高大尺寸光学元件的表面加工质量,必须选择合理的高精度光学抛光手段。射流抛光技术是目前可供使用的一种有效的高精度光学表面加工方法。20世纪90年代末,荷兰Delf

【参考文献】

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【共引文献】

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本文编号：669514