常压电感耦合等离子体工艺用于加工光学材料的去除函数研究

发布时间：2017-08-19 23:22

本文关键词：常压电感耦合等离子体工艺用于加工光学材料的去除函数研究

【摘要】：介绍了使用常压条件下的电感耦合等离子体加工工艺用于加工硅基材料的光学反射镜,诸如:熔石英、反应烧结碳化硅(RB-SiC)、硅等材料。主要研究等离子炬在不同硅基材料上的去除函数的有效性。针对获得去除函数进行高斯函数拟合,其半峰全宽(FWHM)为18mm。去除率分别为10.86,0.82,1.51μm/min。利用此工艺加工了一块100mm口径的碳化硅镜坯,获得的实际面形与虚拟加工面形偏差比在8.57%,收敛率偏差在4.7%。实验结果显示在常压条件下加工大口径非球面反射镜具有良好的去除特性。因此,常压电感耦合等离子体工艺在高精度大口径非球面反射镜加工领域有着广阔的应用前景。
【作者单位】：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室;
【关键词】： 光学制造 常压电感耦合等离子体 碳化硅 高精度 非球面
【基金】：国家973计划(2011CB0320005)
【分类号】：TG664;TH74
【正文快照】： 1引言在地球上已经被发现的物质组成状态主要有三种:固态、液态、气态。而等离子态经常被人们视为第四种物质形态。但研究人员发现等离子态在宇宙中是最常见的形态,在可见的宇宙当中有超过99%的物质属于等离子态。0816001-1根据产生等离子体的环境条件,可以把等离子体分为2种:

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