双光纤相移点衍射干涉仪装调技术
本文关键词:双光纤相移点衍射干涉仪装调技术
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【摘要】:为了实现对极紫外光刻物镜系统波像差的超高精度检测,引入了双光纤相移点衍射干涉仪,介绍了其工作原理,并对干涉仪的装调方案进行了精密的设计。解决了各个元器件的精确定位问题,保证了进入光纤之前的测试光和参考光严格垂直,实现了耦合系统与光纤之间最大的耦合效率和干涉条纹最大的条纹对比度,为最终能够实现极紫外光刻物镜系统波像差的超高精度检测提供了前期准备。装调完毕后,利用实验装置对某一光学系统进行了测量,使用十三步相移算法还原被检光学系统波像差,得到了较好的结果,测试结果为:PV值为37.82 nm,RMS值为7.83 nm。
【作者单位】: 东北电力大学理学院;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室;
【关键词】: 装调技术 双光纤相移点衍射干涉仪 光学系统波像差 光学检测
【基金】:东北电力大学博士科研启动基金(BSJXM-201218)
【分类号】:TH744.3;O436.1
【正文快照】: 0引言极紫外光刻(EUVL)技术作为下一代光刻技术的最佳候选技术,它最大程度地继承了目前光学光刻的发展成果。作为光刻机核心单元之一的光刻物镜为了实现光刻分辨率及临界尺寸控制的要求,其RMS波像差应小于1 nm rms,要检测如此高精度的光学系统,就需要更高精度的检测设备,其检
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