光栅刻划机刻划系统光机电集成优化方法研究

发布时间：2017-08-30 04:42

  本文关键词：光栅刻划机刻划系统光机电集成优化方法研究

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【摘要】：针对大面积衍射光栅刻划机在宏观尺度下进行微纳加工的工作特点以及纳米级刻线检测困难的问题,提出了一种光机电集成优化方法.此方法采用计算傅里叶光学和弦振动理论进行光栅刻线误差分析,结合振动实验及光学测量进行验证,最后采用智能优化方法对刻划系统进行结构参数优化.虚拟样机仿真结果表明,刻划系统的振动幅度降低了30%,验证了该集成优化方法的有效性.
【作者单位】： 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系;合肥师范学院电子信息工程学院;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;
【关键词】： 光栅刻划机 光机电集成优化 计算傅里叶光学 智能优化
【基金】：“十一五”国家科技支撑计划重大项目(2006BAK03A02) 国家重大科研装备研制项目(ZBYZ2008-1) 中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(WK2090090010) 安徽省自然科学基金资助项目(1308085QE92) 合肥师范学院人才基金资助项目(2013RCJJ04)
【分类号】：TH74
【正文快照】： 光栅制造技术作为当今最为精密的技术之一,使得光栅刻划机被称为“精密机械之王”[1].光栅刻划机制造的光栅质量保证主要依靠两个方面:一是固定待刻光栅毛坯的分度系统的定位精度;二是刻划系统的刻划直线度.两方面的精度都需要同时保证,缺一不可.国内外的光栅刻划机研究,集中

【参考文献】

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1 李智勇;陈友文;;一种融入小生境技术的遗传禁忌算法[J];湖南大学学报(自然科学版);2010年04期

2 魏s，

本文编号：757332