光学元件气囊抛光去除效率影响因素研究

发布时间：2017-09-01 09:04

  本文关键词：光学元件气囊抛光去除效率影响因素研究

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【摘要】：基于Preston方程分析了气囊抛光特性,确定去除函数的三个重要特征,即抛光斑尺寸、形状以及去除量,得到影响光学元件气囊抛光材料去除效率的主要参数.通过定点抛光实验,分析气囊充气压强、压缩量、主轴转速对BK7光学元件去除函数和材料去除效率的影响.结果表明:充气压强与压缩量对于气囊抛光去除函数的形状影响较大,去除效率随气囊充气压强增大先升高到2.08mm3/min后逐渐降低然后又升高,压缩量与气囊转速的提高增大了材料的去除效率,分别可以达到6.84mm3/min和5.04mm3/min.
【作者单位】： 厦门大学机电工程系;
【关键词】： 气囊抛光 去除效率 工艺参数 去除函数 抛光斑尺寸
【基金】：国家自然科学基金资助项目(51275433) 国家科技重大专项资助项目(2013ZX04006011-206) 中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室开放基金资助项目(KF13011)
【分类号】：TH74
【正文快照】： 大口径光学元件的超精密加工过程包括磨削、粗抛和精抛.粗抛光的主要目的是快速去除磨削加工中产生的毛刺、变质层等,在保证一定表面粗糙度的基础上,提高抛光效率;精抛阶段主要目的是以提高工件的面形误差为主,最终达到镜面的抛光质量[1-4].气囊抛光工具由于本身的特点适用于

【参考文献】

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本文编号：771160