TOF-SIMS样品光学成像系统设计

发布时间：2017-09-11 01:27

  本文关键词：TOF-SIMS样品光学成像系统设计

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【摘要】：本研究为飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)设计了一种具有高空间分辨率的样品光学成像系统。该系统由一种改进的Schwarzschild双反射系统、45°反射镜、变焦镜头及CCD图像传感器构成。采用ZEMAX软件对传统Schwarzschild模型进行计算和改进,得出系统优化参数并进行仿真验证。仿真结果表明:系统最佳的成像分辨率达1μm,极限分辨率为0.4μm,RMS半径小于艾里斑直径,波像差满足瑞利判据,成像质量良好。
【作者单位】： 吉林大学仪器科学与电气工程学院;中国地质科学院地质研究所北京离子探针中心;
【关键词】： 成像系统 Schwarzschild双反射系统 ZEMAX 飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)
【基金】：国家重大科学仪器设备开发专项《同位素地质学专用TOF-SIMS科学仪器》之任务二(2011YQ05006902)资助
【分类号】：TH843
【正文快照】： 2.中国地质科学院地质研究所,北京离子探针中心,北京102206)微区原位同位素分析方法是地球科学及宇宙空间科学中对锆石以及宇宙尘埃样品有效的技术分析手段[1]。二次离子质谱仪(SIMS)作为高效的表面分析仪器,可以在样品上数微米的范围内获取精确的同位素和化学组成信息,是一种

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本文编号：827824