用于承载铷原子钟滤光泡的高品质微腔体制备

发布时间：2017-09-17 02:13

  本文关键词：用于承载铷原子钟滤光泡的高品质微腔体制备

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【摘要】：在芯片级铷原子钟中,需要微腔体来承载Rb—87滤光泡,为此,提出了一种用于制作高品质微腔体的新技术。为了获得光滑的腔体侧面和避免腐蚀过程中凸角处产生削角现象,研究中采用了超声腐蚀技术和凸角补偿技术。首先,分别在纯KOH溶液,并结合搅拌和超声等方法,对(100)硅片进行湿法腐蚀,并运用激光共聚焦扫描显微镜对腐蚀后的{111}表面进行粗糙度测量,表明运用超声腐蚀技术可以获得光滑的{111}腔体侧面。在此基础上,引入条形掩模凸角补偿方法进行微腔体腐蚀。实验结果表明:在80℃、质量分数为30%KOH、超声频率和功率分别为59 kHz和160 W的溶液中腐蚀,其{111}腐蚀表面粗糙度为0.117μm,同时条形的长度取1200μm时,可以获得平滑规整的微腔体。
【作者单位】： 厦门大学物理与机电工程学院;厦门大学萨本栋微米纳米技术研究院;
【关键词】： 微腔体 铷原子钟 各项异性湿法腐蚀 超声腐蚀 激光共聚焦扫描显微镜 凸角补偿
【基金】：福建省重大科技项目前期研究计划资助项目(2005HZ1021)
【分类号】：TH714.14
【正文快照】： 0引言硅各向异性腐蚀工艺是MEMS加工技术的重要组成部分。(100)硅片各向异性腐蚀后,{111}斜面与{100}底面成54.74°。通过提高KOH腐蚀溶液的溶度、在腐蚀溶液添加异丙醇、腐蚀过程中采用磁力搅拌等技术,而后进行表征,发现上述腐蚀技术能够明显改善{100}晶面的腐蚀质量,能够有

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