大口径非球面光学研抛压力控制系统

发布时间：2017-09-20 10:12

  本文关键词：大口径非球面光学研抛压力控制系统

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【摘要】：根据大口径非球面光学元件研抛工艺的需求,基于行星式研抛装置设计了一种新型的双路气压平衡研抛压力控制系统。该系统利用低摩擦气缸,压力传感器和两个电气比例阀构建研抛气压闭环回路。分析了系统工作原理,建立了压力控制系统的非线性模型。为了实现恒压控制,运用前馈控制及双模态PID控制算法设计了复合控制器。实验结果表明,该系统能实现研抛压力的平缓过渡,可完成研抛压力的无级调节和柔性控制,输出研抛压力在0到350N可调,稳态压力波动小于1N,对气缸活塞位移波动干扰有较强的鲁棒性。该系统基本满足研抛系统对研抛压力稳定性和精确度的要求。
【作者单位】： 重庆大学自动化学院;
【关键词】： 大口径非球面 光学研抛 研抛压力 压力控制 PID控制
【基金】：国家自然科学基金资助项目(No.61473050) 重庆市科技攻关资助项目(No.CSTC2012GG-YYJS40008)
【分类号】：TH74;TP273
【正文快照】： 1引言大口径非球面光学元件加工是一个复杂的工艺过程,研抛工具和非球面间的研抛压力直接影响非球面的研抛质量[1]。在传统的光学加工过程中,研抛细磨阶段往往采用手工修抛的方式来加工光学元件,但人工施加研抛压力存在效率低下,重复精度差等缺点,不适合大口径高精度光学元件

【参考文献】

中国期刊全文数据库 前10条

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【共引文献】

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本文编号：887448