磁流变抛光去除函数形状动态预测方法

发布时间：2017-09-23 09:34

  本文关键词：磁流变抛光去除函数形状动态预测方法

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【摘要】：提出了一种磁流变抛光去除函数形状的动态预测方法。建立了去除函数形状的演变机制,并根据实际的磁流变抛光应用范围,通过数值计算分析得到了较简单的去除函数形状的演变方法。分析表明,对于实际抛光过程,去除函数长度和宽度的改变量与浸入深度的改变量有很好的线性关系,其决定系数均在95%以上。与实验结果对比,对去除函数的49次预测中,长度预测的相对误差在-4.52%~5.51%之间,宽度预测的相对误差在-7.20%~6.63%之间。
【作者单位】： 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所;
【关键词】： 磁流变抛光 去除函数 抛光斑演绎 动态预测
【基金】：国防基础科研项目(A1520133005) 中国工程物理研究院预先研究课题(K818-13-Y)
【分类号】：TH74
【正文快照】： 应用于惯性约束聚变(ICF)和极端条件物理实验的强激光系统,如NIF,CEA,OMEGA等,使用了大量高精度光学元件,如大口径平面和连续相位板[1]。磁流变抛光是一种子孔径确定量抛光技术,一般用于这类光学元件最终修形,以控制其全频段误差[2-4]。去除函数形状的确定性对低中频误差的收

【参考文献】

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【共引文献】

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【相似文献】

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本文编号：904530