基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法

发布时间：2018-04-05 10:03

  本文选题：光学制造　切入点：光刻　出处：《光学学报》2017年10期

【摘要】：全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源掩模投影物镜联合优化(SMPO)方法。将由像素表征的光源、由离散余弦变换基表征的掩模及由泽尼克系数表征的投影物镜编码为粒子,以图形误差作为评价函数,通过不断迭代更新粒子,实现光源掩模投影物镜联合优化。在标称条件和工艺条件下,采用含有交叉门的复杂掩模图形对所提方法的仿真验证表明,图形误差分别降低了94.2%和93.8%,有效提高了光刻成像质量。与基于遗传算法的SMPO方法相比,该方法具有更快的收敛速度。此外,该方法具有优化自由度高和优化后掩模可制造性强的优点。
[Abstract]:Full-chip multi-parameter optimization is an important development direction of lithography resolution enhancement technology.In this paper, a PSO algorithm based on PSO algorithm is proposed for the joint optimization of light source mask projection objective lens (SMPO).The light source represented by pixels, the mask represented by discrete cosine transform basis and the projective objective lens represented by Zenick coefficient are encoded as particles. The graphics error is used as the evaluation function, and the particles are updated by iteration.The joint optimization of light source mask projection objective lens is realized.Under the nominal and technological conditions, the simulation results show that the error of the proposed method is reduced by 94.2% and 93.8%, respectively, and the lithography quality is improved effectively.Compared with the SMPO method based on genetic algorithm, this method has faster convergence speed.In addition, this method has the advantages of high degree of freedom and high manufacturability of optimized mask.
【作者单位】： 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室;中国科学院大学;
【基金】：上海市自然科学基金(17ZR1434100)
【分类号】：TN405;TP18

【相似文献】

相关期刊论文 前10条

1 赵立新;张雨东;王建;戴云;高洪涛;董小春;饶学军;;球面投影光刻物镜的设计[J];光电工程;2009年01期

2 田伟;王平;王汝冬;王立朋;隋永新;;193nm光刻投影物镜单镜支撑仿真分析及实验研究[J];中国激光;2012年08期

3 涂远莹;王向朝;;一种基于线性模型的光刻投影物镜偏振像差补偿方法[J];光学学报;2013年06期

4 秦硕;巩岩;袁文全;杨怀江;;大时间热响应常数投影物镜的超高精度温度控制[J];光学精密工程;2013年01期

5 曹振;李艳秋;刘菲;;16～22nm极紫外光刻物镜工程化设计[J];光学学报;2013年09期

6 赵阳;巩岩;;投影物镜小比率模型系统补偿量的选择[J];光学精密工程;2013年12期

7 秦硕;巩岩;于新峰;袁文全;彭海峰;杨怀江;;热扰动条件下投影物镜温度响应的高精度建模[J];光学精密工程;2013年11期

8 耿康;;193nm光刻投影物镜的研究[J];光学仪器;2010年03期

9 刘菲;李艳秋;;大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计[J];光学学报;2011年02期

10 齐克奇;;光刻机投影物镜安装方式研究[J];光机电信息;2011年08期

相关会议论文 前10条

1 彭勃;王向朝;;用于光刻投影物镜波像差检测的照明设置优化[A];第十三届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2010年

2 杨济硕;王向朝;闫观勇;徐东波;李思坤;;基于空间像自适应降噪的投影物镜波像差检测方法[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2012年

3 涂远莹;王向朝;;基于双缝图形空间像峰值光强差的光刻投影物镜奇像差检测技术[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2012年

4 段立峰;彭勃;王向朝;;基于空间像主成分分析的光刻投影物镜波像差检测技术[A];第十三届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2010年

5 袁琼雁;王向朝;邱自成;;基于移相掩模优化的光刻机投影物镜偶像差检测技术[A];第十二届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2008年

6 徐东波;王向朝;步扬;闫观勇;杨济硕;;空间像噪声拟合及滤波分析方法[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2012年

7 邱自成;王向朝;袁琼雁;彭勃;;基于平移对称移相光栅的光刻机投影物镜波像差检测方法[A];第十二届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2008年

8 汤飞龙;李中梁;王向朝;步扬;曾绍谦;;一种提高光束斯托克斯参数与偏振度测量精度的方法[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2012年

9 王丽萍;;极紫外反射式掩模白板位相缺陷检验研究[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2012年

10 周烽;王丽萍;;高精度掩模定位测量塔研制[A];第十四届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）[C];2012年

相关重要报纸文章 前9条

1 深圳清溢光电股份有限公司常务副总经理 张沛;提升产业链竞争力 中国掩模版迈向高世代[N];中国电子报;2009年

2 王忠良　记者 丁秀玉;我首台自主知识产权光掩模工艺设备诞生[N];科技日报;2008年

3 本报记者 冯晓伟;掩模版：产业链合作图共赢 打破垄断盼扶持[N];中国电子报;2009年

4 ;面板厂注资掩模版企业可实现共赢[N];中国电子报;2009年

5 诗文;翔准推出90纳米掩模技术[N];电子资讯时报;2002年

6 冯晓伟;Toppan：将向中国市场推出0.18微米光掩模[N];中国电子报;2008年

7 郭长佑;Structured ASIC技术发展观察[N];电子资讯时报;2007年

8 北京七星华创电子股份有限公司 董大为;新世纪的半导体光刻技术[N];中国电子报;2001年

9 ;“亮峰”技术 延寿传统光刻工艺[N];计算机世界;2003年

相关博士学位论文 前6条

1 姚长呈;深紫外光刻投影物镜热像差仿真与主动补偿技术研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2016年

2 杨旺;光刻投影物镜像质分析及补偿研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2015年

3 金春水;极紫外投影光刻中若干关键技术研究[D];中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）;2003年

4 刘菲;共轴极紫外投影光刻物镜设计研究[D];北京理工大学;2014年

5 骆聪;深紫外光刻投影物镜热像差仿真研究[D];中国科学院研究生院(长春光学精密机械与物理研究所);2015年

6 董立松;矢量光刻成像理论与分辨率增强技术研究[D];北京理工大学;2014年

相关硕士学位论文 前10条

1 杜伟峰;深紫外浸没式光刻投影物镜设计[D];哈尔滨工业大学;2012年

2 邓亚飞;大面积高精度PCB光刻技术的研究[D];广东工业大学;2013年

3 王新星;基于准分子激光投影扫描系统的大面积ITO及TFT光刻的研究[D];广东工业大学;2012年

4 吴小飞;部分相干照明下的光刻掩模图形优化方法研究[D];华中科技大学;2012年

5 刘佳;光刻仿真中二维掩模近场的扩展傅立叶分析和严格耦合波分析[D];兰州大学;2008年

6 赵圣哲;无掩模光刻系统研究[D];长春理工大学;2010年

7 黄河;激光化学气相沉积光掩模版修复系统的研究[D];华中科技大学;2006年

8 钟希欢;动态分形数字掩模技术制作微透镜及其阵列的研究[D];南昌航空大学;2012年

9 吴志会;光刻机掩模台动力学建模与分析[D];华中科技大学;2012年

10 王丽娟;用于波像差检测的二元光栅掩模标记优化方法研究[D];华中科技大学;2011年

，

本文编号：1714283