中大口径光学元件双面抛光控制技术研究
【学位单位】:长春理工大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2019
【中图分类】:TP273;TH74
【部分图文】:
a) b)图 1.2 MRF 材料去除过程和设备a) MRF 的材料去除过程 b) Q22-2000F 型磁流变抛光机床.2 应力盘抛光应力盘抛光(Stressed Lap Polishing, SLP)技术是 20 世纪 80 年代末由美国亚大学提出的接触式抛光方法[12],主要用于有较大偏离量的大口径高陡度非球面件的抛光。SLP 根据抛光要求改变应力盘的加工角度实现非球面的超精密加工P 的抛光过程如图 1.3 所示,在应力盘上安装驱动器以接收由计算机发出的应力于镜面位置和方向的指令,通过改变边缘力矩的大小,实现应力盘与被抛光的光学元件表面相吻合[11]。因为应力盘抛光可以实现不同面性的可控制加工,因著的高频误差修正效果。同时,可根据加工工件的面形来选择不同规格的抛光现加工工件加工精度和表面粗糙度的有效控制,有效地提高了光学元件的加工2]。
图 1.4 美国亚利桑那大学的应力盘抛光设备1.2.3 小工具抛光小工具抛光(Small Tool Polishing,STP)是 20 世纪 70 年代由美国 Itek 公司W. J. Rupp 提出的一种计算机控制光学表面成型技术(Computer Controlled OpticSurfacing, CCOS)技术[18]。它采用小磨头对工件表面进行研磨或抛光,通过计算机控制磨头在光学元件表面不同位置的相对压力和驻留时间等来控制材料去除量,实面形的修正和高精度加工[19]。与大尺寸磨头相比,小磨头可以更好的与光学元件加表面吻合,达到相对稳定的去除效果;同时计算机的实时操控避免了传统抛光的经和技巧不足带来的影响,有效地提升了光学元件的加工效率。但基于接触式的加工法都无法避免亚表面损伤和边缘效应等问题,而且无法实现与非球面加工工件表面完全重合,并容易产生高频误差[19]。图 1.5 b)为中国科学院长春光机所用于 4000m口径光学元件加工的 FSGJ 设备[20]。
图 1.4 美国亚利桑那大学的应力盘抛光设备1.2.3 小工具抛光小工具抛光(Small Tool Polishing,STP)是 20 世纪 70 年代由美国 Itek 公司的W. J. Rupp 提出的一种计算机控制光学表面成型技术(Computer Controlled OpticalSurfacing, CCOS)技术[18]。它采用小磨头对工件表面进行研磨或抛光,通过计算机来控制磨头在光学元件表面不同位置的相对压力和驻留时间等来控制材料去除量,实现面形的修正和高精度加工[19]。与大尺寸磨头相比,小磨头可以更好的与光学元件加工表面吻合,达到相对稳定的去除效果;同时计算机的实时操控避免了传统抛光的经验和技巧不足带来的影响,有效地提升了光学元件的加工效率。但基于接触式的加工方法都无法避免亚表面损伤和边缘效应等问题,而且无法实现与非球面加工工件表面的完全重合,并容易产生高频误差[19]。图 1.5 b)为中国科学院长春光机所用于 4000mm口径光学元件加工的 FSGJ 设备[20]。
【参考文献】
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本文编号:2881984
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