基于LAB WINDOWS/CVI的真空镀膜设备控制系统开发
发布时间：2021-11-09 10:29
材料科学和材料工业技术的发展对于国家当代科学技术发展具有重要的意义,真空镀膜技术是材料科学和材料工业技术领域的一个重要的分支。真空镀膜技术具有百年的发展历史背景,在目前依然具有良好的发展前景,在工业领域有广泛的应用,如建筑五金业、小五金业、制表业等等。真空镀膜设备是实现真空镀膜技术的平台而其控制系统是整个装置的调试和运行平台,负责整个镀膜工艺的实现过程,是真空镀膜设备中的重要组成部分。伴随真空镀膜技术的日益成熟和工艺水平的逐步提高,对真空镀膜设备控制系统的技术要求也越来越高,从早期的手动控制逐渐发展到基于工业计算机的全自动控制,并对人机界面的友好性和系统运行的可靠性有了更高的要求。真空镀膜设备PIS-212是由安徽纯源真空镀膜科技有限公司自主设计、生产的高性能纯离子镀膜设备,对控制系统提出了用户权限划分、真空系统快速抽气和安全保护、可灵活配置的复杂工艺流程控制、步长短至0.1ms的高速二维扫描、全面的工艺流程监控、全面详尽的日志系统和支持Excel文件格式等技术要求。通过对国内外真空镀膜产品控制系统的调研,选择了基于C/S模型的上下位机硬件控制结构和基于Lab Windows/CVI的...
【文章来源】：中国科学技术大学安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章页数】：69 页
【学位级别】：硕士
【文章目录】：
摘要
ABSTRACT
第一章 绪论
1.1 真空镀膜技术介绍
1.1.1 蒸发镀膜
1.1.2 溅射镀膜
1.1.3 离子镀膜
1.2 国内外真空镀膜设备及其控制系统
1.2.1 北京丹普表面技术有限公司的真空镀膜设备
1.2.2 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司的真空镀膜设备
1.2.3 德国莱宝公司的真空镀膜设备
1.2.4 调研内容小结
1.3 论文主要内容和章节安排
第二章 真空镀膜设备PIS-212及其技术要求
2.1 真空镀膜设备PIS-212介绍
2.2 PIS-212控制系统技术要求
第三章 Lab Windows/CVI开发平台
3.1 Lab Wi ndows/CVI平台介绍
3.2 基于Lab Windows/CVI平台的程序设计基础
3.2.1 基于Lab Windows/CVI平台的项目结构
3.2.2 基于Lab Windows/CVI平台的界面设计
3.2.3 基于Lab Windows/CVI平台的回调函数
3.3 Lab Wi ndows/CVI平台的高级程序设计技术
3.3.1 基于Lab Windows/CVI平台的多线程技术
3.3.2 基于Lab Windows/CVI平台的Excel编程技术
第四章 真空镀膜设备PIS-212控制系统开发
4.1 PIS-212控制系统的硬件设计
4.2 PIS-212控制系统的软件设计
4.3 PIS-212控制系统的软件开发
4.3.1 用户登录模块
4.3.2 主控界面模块
4.3.3 操作模式模块
4.3.4 系统管理模块
4.3.5 运行控制模块
第五章 结论和展望
5.1 结论
5.2 展望
参考文献
致谢
在学期间取得的学术成果
【参考文献】：
期刊论文
[1]基于PLC和力控组态软件的磁过滤复合镀膜设备控制系统设计[J]. 唐慧刚,丁国明. 电子世界. 2016(07)
[2]第十九讲 真空溅射镀膜[J]. 张以忱. 真空. 2016(02)
[3]真空镀膜生产中常见问题及解决方法[J]. 刘保锐,张明,翟鹏飞,王晓光,武志. 电镀与精饰. 2015(10)
[4]浅谈真空镀膜领域的发明专利现状[J]. 漆海清. 电子制作. 2015(09)
[5]基于LabWindows/CVI的特殊弹簧测试中Excel报表生成（英文）[J]. 靳璐,郑宾,陈昌鑫. Journal of Measurement Science and Instrumentation. 2014(03)
[6]基于PLC的真空镀膜机控制系统改造[J]. 付永吉. 科技风. 2014(07)
[7]KMP算法的理论研究[J]. 韩光辉,曾诚. 微电子学与计算机. 2013(04)
[8]真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜[J]. 张以忱. 真空. 2013(01)
[9]基于VXI总线的QCM测试系统设计与实现[J]. 郑睿,孟晓风,聂晶,汪烁. 电子测量与仪器学报. 2012(08)
[10]Dual queues cache replacement algorithm based on sequentiality detection[J]. XIAO Nong,ZHAO YingJie,LIU Fang&CHEN ZhiGuang Department of Computer Science,National University of Defense Technology,Changsha 410073,China. Science China（Information Sciences）. 2012(01)
本文编号：3485159
【文章来源】：中国科学技术大学安徽省 211工程院校 985工程院校
【文章页数】：69 页
【学位级别】：硕士
【文章目录】：
摘要
ABSTRACT
第一章 绪论
1.1 真空镀膜技术介绍
1.1.1 蒸发镀膜
1.1.2 溅射镀膜
1.1.3 离子镀膜
1.2 国内外真空镀膜设备及其控制系统
1.2.1 北京丹普表面技术有限公司的真空镀膜设备
1.2.2 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司的真空镀膜设备
1.2.3 德国莱宝公司的真空镀膜设备
1.2.4 调研内容小结
1.3 论文主要内容和章节安排
第二章 真空镀膜设备PIS-212及其技术要求
2.1 真空镀膜设备PIS-212介绍
2.2 PIS-212控制系统技术要求
第三章 Lab Windows/CVI开发平台
3.1 Lab Wi ndows/CVI平台介绍
3.2 基于Lab Windows/CVI平台的程序设计基础
3.2.1 基于Lab Windows/CVI平台的项目结构
3.2.2 基于Lab Windows/CVI平台的界面设计
3.2.3 基于Lab Windows/CVI平台的回调函数
3.3 Lab Wi ndows/CVI平台的高级程序设计技术
3.3.1 基于Lab Windows/CVI平台的多线程技术
3.3.2 基于Lab Windows/CVI平台的Excel编程技术
第四章 真空镀膜设备PIS-212控制系统开发
4.1 PIS-212控制系统的硬件设计
4.2 PIS-212控制系统的软件设计
4.3 PIS-212控制系统的软件开发
4.3.1 用户登录模块
4.3.2 主控界面模块
4.3.3 操作模式模块
4.3.4 系统管理模块
4.3.5 运行控制模块
第五章 结论和展望
5.1 结论
5.2 展望
参考文献
致谢
在学期间取得的学术成果
【参考文献】：
期刊论文
[1]基于PLC和力控组态软件的磁过滤复合镀膜设备控制系统设计[J]. 唐慧刚,丁国明. 电子世界. 2016(07)
[2]第十九讲 真空溅射镀膜[J]. 张以忱. 真空. 2016(02)
[3]真空镀膜生产中常见问题及解决方法[J]. 刘保锐,张明,翟鹏飞,王晓光,武志. 电镀与精饰. 2015(10)
[4]浅谈真空镀膜领域的发明专利现状[J]. 漆海清. 电子制作. 2015(09)
[5]基于LabWindows/CVI的特殊弹簧测试中Excel报表生成（英文）[J]. 靳璐,郑宾,陈昌鑫. Journal of Measurement Science and Instrumentation. 2014(03)
[6]基于PLC的真空镀膜机控制系统改造[J]. 付永吉. 科技风. 2014(07)
[7]KMP算法的理论研究[J]. 韩光辉,曾诚. 微电子学与计算机. 2013(04)
[8]真空技术及应用系列讲座 第十八讲 真空蒸发镀膜[J]. 张以忱. 真空. 2013(01)
[9]基于VXI总线的QCM测试系统设计与实现[J]. 郑睿,孟晓风,聂晶,汪烁. 电子测量与仪器学报. 2012(08)
[10]Dual queues cache replacement algorithm based on sequentiality detection[J]. XIAO Nong,ZHAO YingJie,LIU Fang&CHEN ZhiGuang Department of Computer Science,National University of Defense Technology,Changsha 410073,China. Science China（Information Sciences）. 2012(01)
本文编号：3485159
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