n型掺杂半导体材料的表面等离激元性能及相关应用研究

发布时间:2021-11-25 09:33
  表面等离激元(Surface Plasmon,SP)是一种发生在金属-介质表面的电子振荡,能够沿着界面传播的电磁波模式被称为表面极化等离激元(Surface Plasmonic Polaritons,SPP),而被局域在材料微结构附近的非传播模被称为局域表面等离激元(Localized Surface Plasmons,LSP)。由于SPP和LSP可以将电磁场强烈局域在亚波长范围,被广泛用于突破衍射极限的电磁场聚焦和电磁场增强等方面的研究。在红外波段,传统表面等离子体材料贵金属,具有等离子波长固定、辐射损耗过大、与硅CMOS工艺难以兼容等缺点。本文提出了两种n型掺杂半导体,为等离子频率分别位于近红外的透明导电氧化物(Transparent Conductive Oxides,TCOs)和位于中红外的锑重掺杂Ⅳ族半导体锗(Antimony doped Germanium)。作为新型表面等离子体材料,这些n型掺杂半导体能够克服传统贵金属的一些缺点,在表面等离激元性能的可调谐性、损耗的可控性以及器件尺寸紧凑性等方面有着独特的优势。基于材料的表面等离激元性能的应用,本文重点研究了透明导电氧化物... 

【文章来源】:浙江大学浙江省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】:124 页

【学位级别】:博士

【部分图文】:

n型掺杂半导体材料的表面等离激元性能及相关应用研究


图1.1电磁波沿金属-介质界面传播示意图

示意图,静电场,球形,粒子


?^???,^?z??图1.2静电场附近球形粒子的示意图??这里我们就需要解一个简单的拉普拉斯方程:??V20?=?0?(1.13)??其中中为电势,它的解为[21]??^(^0)?=I:^0[J4,rI?+6^-(!+1)]^(^0)?(1.14)??其中P<cos6〇是/阶勒让德多项式,6>是位置向量F和z轴的夹角。球体内外的电势??必须有限且连续,其球体内部电势记为〇&,外部电势记为〇eut,可以写作??^mCr.Q)?=?I.T=oAirlpiicos9)?(1.15a)??〇〇ut(r,9)?=?Y.r=〇[Birl?+?Qr-^P^cosd)?(1.15b)??其中J/,5/,G都是常数。外部场需要在r4〇〇的时候满足—仏云二一Eorcos0,??则可以推出心二一仏。且对于其它的/均有B,?=?0。在r?=?<2处,该解需满足连续条件,??即要求??=?(116a)??-A^|r=??=_¥〇^flr?印?d.l6b)??这就说明对于丨式1的所有沁和C/而言,都有冯=C|?=?0。这时只需要考虑山和??G,解得:??Oin?=?-^^E0rcos6?(1.17a)??^〇ut?=?-E0rcos6?+?j^f-a?E0a3?^?(1.17b)??^out可以被认为是夕卜加电场和偶极矩(Dipole?Moment)产生电场的叠加。这里我们引??入偶极矩艮则有??^〇ut?=?-E〇rcosB?+?47r^r3?(?1.18a?)??5??

模型图,线形,模型,氧化物


:??(c)???(d)????W=100nm?Perpendicular?W?=?100nm?Chemical?doping??6?-?〇?Parallel?1??A?A??Coupled?oscillator?10"?A?Higher?doping??r?-?/IT??5:^c^——-??1200?1500?1800?2100?1200?1500?1800?2100??Frequency?(cm1)?Frequency?(cm'1)??图1.3Fano线形振动模型。(a)?plasmon简谐振子模型示意图(b)产生Fano线形??的附加声子的振子示意图。(c)和(d)均为实测的Fam>共振波形图[29]。??1.2.透明导电氧化物??1.2.1.透明导电氧化物简介??透明导电氧化物(Transparent?Conductive?Oxides,TCOs)是一类同时具有可见波段??透明(透过率280%)和高导电性(通常电阻Sl(T3n_cm)的氧化物或掺杂氧化物的统称??[3G]。通常可以将其视为宽带隙半导体,因为其较大的带隙使得可见波段的光子无法满足??电子带间跃迁条件,从而在可见波段透明。??TCO目前被广泛应用于低辐射坡璃[31\透明电极[31光伏器件[33]、柔性显示等??多个领域。TCO可以通过多种方法制造,如化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,??CVD)?[35]、脉冲激光沉积(Pulsed?Laser?Deposition,?PLD)?[36]、脉冲电子沉积(Pulsed??Electron?Deposition,?PED)?[37]、

【参考文献】:
期刊论文
[1]传统光学光刻的极限及下一代光刻技术[J]. 蒋文波,胡松.  微纳电子技术. 2008(06)
[2]几种单双糖及其部分固态金属糖络合物的远红外光谱研究[J]. 杨丽敏,翁诗甫,杨鲁勤,吴瑾光.  光谱学与光谱分析. 2000(02)

博士论文
[1]透明导电氧化物ITO薄膜与ITO/Au复合结构的制备及光电特性研究[D]. 方旭.浙江大学 2016
[2]锗硅低维量子结构制备研究[D]. 张磊.浙江大学 2011



本文编号:3517869

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