功能性电子束抗蚀剂的研究及器件应用

发布时间：2024-03-27 03:28

　　纳米尺度的高分辨功能性结构在微电子器件、等离激元光学、生物传感等领域有着重要的应用。但是如何更加高效地加工出更高精度的功能结构一直都是研究人员所关注的问题。常规的加工手段包括三个步骤:(1)通过高能电子束曝光对抗蚀剂进行微纳结构制备;(2)在样品表面沉积功能材料;(3)通过剥离或者刻蚀工艺将抗蚀剂结构转移到功能性材料上。这种加工方法作为一种成熟稳定的制备工艺可以满足实验室的大部分应用需求。但是该方法在使用过程中同样也存在一些问题:比如需要用到真空镀膜设备、图形转移过程中容易产生图形分辨率的缺失和缺陷的引入、高深宽比结构和亚10 nm结构制备困难等等。为了解决传统功能结构制备工艺中遇到的困难,科研人员提出了利用功能性抗蚀剂直接制备功能结构的方法,即将抗蚀剂经过电子束曝光后直接实现某种功能。功能性电子束抗蚀剂的使用不仅减少了图形转移这一复杂的步骤,而且也避免了上文中提到的很多问题。基于这样的考虑,本文提出了使用环烷酸铜和HAuCl₄/PVP复合溶液作为功能性电子束抗蚀剂进行高分辨导电结构和可转移金颗粒阵列的制备。同时,针对一些传统抗蚀剂,比如说HSQ(Hydrogen...

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【学位级别】：博士

【部分图文】：

图1.7通过毛细力作用引发的结构吸附现象得到的分层自组装结构

本文编号：3940127