北方微电子机械怎么样_北方微电子

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公司简介

北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，，作为国内领先的高端半导体装备制造企业，我们所开发的刻蚀设备(ETCH)、化学气相沉积设备(CVD)、物理气相沉积设备(PVD)等核心产品已广泛应用于集成电路(Semiconductor)、半导体照明(LED)、微机电系统 (MEMS)、功率半导体(Power IC)、先进封装(Advanced Packaging)、光通信(Optical Communication)及化合物半导体(Compound Semi)等尖端领域。北方微电子经过十余年的发展，形成了刻蚀工艺、薄膜工艺、等离子技术、精密机械、自动化及软件、超高真空等核心技术优势，为微电子产业的快速发展提供了值得信赖的产品和服务。秉承科技创新，用户至上的理念，北方微电子正致力于成为一家具有国际影响力的高端装备及工艺解决方案提供商。

企业文化

我们的使命

生活更美好，环境更自然。

我们的价值观

以客户为导向的持续创新。

我们的愿景

致力于成为一家值得信赖并受人尊重，在微电子装备领域拥有领先技术，具有国际影响力的高端装备及工艺解决方案提供商。

我们的宗旨

精良品质，卓越服务，中国制造。

我们的精神

创造精良，打造民族自尊。

成长历程

2012年

半导体照明领域ITO-sputter设备实现销售

先进封装领域Polaris TSV PVD设备实现销售

光波导领域GSE200系列等离子刻蚀机实现销售

成立合肥、武汉、新竹客户服务中心

2011年

半导体照明领域ELEDE® 330 ICP等离子刻蚀机实现批量销售，大陆地区市场占有率超过50%

12英寸65nm高密度等离子刻蚀机参加“十一五”国家重大科技成就展

12英寸65/45nm NMC612A高密度等离子刻蚀机通过中芯国际北京工厂生产线工艺验证

“十二五”《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》重大专项(02专项)“45-22nm铜互连PVD设备研发及产业化”项目通过立项评审

8英寸NMC508A高密度等离子刻蚀机实现对上海华虹NEC公司的二次销售

微机电系统(MEMS)领域DSE200系列深硅等离子刻蚀机实现销售

成立东莞、芜湖、西安客户服务中心

2010年

半导体照明领域ELEDE® 330 ICP刻蚀机实现销售

8英寸NMC508A高密度等离子刻蚀机实现对国家先导工艺研发中心的销售

国家“十二五”《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》重大专项(02专项)“32-22nm栅刻蚀机产品研发及产业化”项目正式启动

2009年

“100nm高密度等离子刻蚀机研发与产业化项目”荣获国务院颁发的国家科技进步二等奖

国家“十一五”《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》重大专项(02专项)“65/45nmPVD设备研发”项目正式启动

2008年

“100nm高密度等离子刻蚀机研发与产业化项目”荣获北京市科学技术一等奖

国家“十一五”《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》重大专项(02专项)“90/65nm刻蚀机研发与产业化”项目正式启动

8英寸NMC508A高密度等离子刻蚀机实现对上海宏力半导体公司的销售

12英寸90/65nm NMC612高密度等离子刻蚀机进入中芯国际北京工厂

2007年

公司北京亦庄经济技术开发区产业化基地正式奠基

8英寸NMC508A高密度等离子刻蚀机实现对上海华虹NEC公司的销售

国家“十一五”科技支撑计划“高密度等离子刻蚀机反应室系统优化与工艺制程技术开发”项目正式启动

2006年

“100nm高密度等离子刻蚀机”项目通过国家科技部和北京市政府组织的联合验收

8英寸100nm高密度等离子刻蚀机与客户签订批量销售订单

成立上海客户服务中心

2005年

8英寸100nm高密度等离子刻蚀机进入中芯国际天津工厂

通过由BVQi审核的ISO9001、ISO14001和OHSAS18001管理体系认证

成立天津客户服务中心

成立美国硅谷办事处

2004年

集成电路制造装备和工艺试验平台建成，洁净厂房投入使用

第一台8英寸100nm高密度等离子刻蚀机开发成功

成立日本东京办事处

2003年

国家“十五”863计划集成电路制造装备重大专项“100nm高密度等离子刻蚀机”项目正式启动

公司研发中心选址中关村电子城科技园区，落成并启用

2002年

国家“十五”863计划集成电路制造装备重大专项——“100nm高密度等离子刻蚀机”项目通过科技部、北京市政府的立项批复

2001年

北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司注册成立

社会荣誉

2013

吴军博士入选“国家千人计划”和 “北京市海聚工程”——中共中央组织部、中共北京市委组织部

董博宇博士入选“北京市海聚工程”——中共北京市委组织部

2012

公司总裁赵晋荣获得“2011-2012年度中国LED行业优秀企业家”称号——中国光学光电子行业协会

公司总裁赵晋荣入选“科技北京百名领军人才培养工程”——中共北京市委组织部、北京市科学技术委员会

公司总裁赵晋荣获得“北京市有突出贡献的科学、技术、管理人才”奖励——中共北京市委组织部

ELEDE® 330 ICP刻蚀机荣获“中国半导体创新产品和技术项目”奖——中国半导体行业协会

“2012中国新兴产业最具投资价值企业”——高工产业研究院

“SEMI中国产业奖”——SEMI 中国

“2011中国LED行业特别奖”——中国光学光电子行业协会

“2012最具潜力LED企业”——OFWEEK光电新闻网

2012“芯光杯”优秀金奖——中国半导体行业协会

公司总裁赵晋荣获得“极光奖”之“最佳LED首脑奖”——LED INSIDE

ELEDE® 330 ICP 等离子刻蚀机获得“极光奖”之“中国市场-最佳LED设备奖” ——LED INSIDE

2011

2011中关村高成长企业TOP100——北京中关村高新技术企业协会

北京市科技进步二等奖(大产能高亮度LED刻蚀机研发及产业化)——北京市

第六届中国半导体创新产品(LED刻蚀机)——中国半导体行业协会

第二届北京市发明专利二等奖以及中国专利优秀奖——国家知识产权局

公司副董事长耿锦启获得北京市“首都劳动奖章”

2010

2010年度优秀团队奖——国家科技重大专项02专项实施管理办公室

刘韶华博士、王厚工博士入选“国家千人计划”和“北京市海聚工程”

公司总裁赵晋荣获得国家科技部颁发的“十一五国家科技计划执行突出贡献奖”

2009

国家科学技术进步二等奖(100纳米等离子刻蚀机项目)——国务院

全国企事业知识产权试点单位——国家知识产权局

最受关注本土半导体设备与材料公司——SEMI中国

丁培军博士入选首批“国家千人计划” 和“北京市海聚工程”

2008

北京市科技进步一等奖(100纳米等离子刻蚀机项目)——北京市

公司副总裁赵晋荣入选北京市百千万人才工程

北京市制造业信息化工程“设计制造管理集成应用”示范企业——北京市科学技术委员会

中国制造业信息化工程风云榜“十大创新领袖”——《中国制造业信息化》杂志社

信息北京十大应用创新成果“应用典范”奖——北京信息化协会

中华工人先锋号——中华全国总工会

荣获SEMI组织评选“最受关注本土半导体设备与材料公司”称号

2007

首批“北京市专利示范单位”——北京市知识产权局

首都劳动奖状——北京市总工会

2006

第一届中国半导体创新产品(8英寸等离子刻蚀机)——中国半导体行业协会

北京市高技术产业2006重大经济事件——北京市发展改革委员会

北京电子信息产业十大杰出成就——北京市工业促进局

公司总裁耿锦启获得“北京电子信息产业十大杰出贡献者”荣誉

公司总裁耿锦启 “2006年中国半导体制造业年度人物” ——《半导体国际》

2005

北京市职工优秀技术创新成果三等奖(100纳米等离子刻蚀机研发及产业化项目)——北京市

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