纯钛表面电子束蒸镀钴铬合金涂层对钛瓷结合强度的影响

发布时间：2022-01-27 07:31

　　目的:应用电子束蒸镀的方法于纯钛表面沉积不同厚度钴铬合金涂层以研究其对钛瓷结合强度的影响。方法:将60个喷砂后的钛片（25.0 mm×3.0 mm×0.5 mm）随机分成实验组（A,B,C,D组）和对照组（E组） 5组,实验组喷砂后通过电子束蒸镀的方式于表面形成不同厚度的钴铬合金涂层,其厚度分别为20 nm（A组）、40 nm（B组）、60 nm（C组）、80 nm（D组）,E组仅喷砂处理。对电子束蒸镀完成后于纯钛表面形成的涂层进行扫描电镜（scanning electron microscope,SEM）观察及能谱（energy dispersive spectrum,EDS）分析,试件烤瓷后通过三点弯曲力学试验检测其钛瓷结合强度,瓷剥脱后进行SEM和EDS分析以及钛瓷结合界面的SEM和线性分析。结果:A,B,C,D,E组钛瓷结合强度分别为（36.11±1.17）,（43.33±1.17）,（39.95±2.22）,（38.85±1.10）和（30.23±1.94） MPa。实验组钛瓷结合强度均高于对照组（均P<0.05）,且高于ISO 9693规定的临床标准,其中B组（40 ... 

【文章来源】：中南大学学报(医学版). 2020,45(11)北大核心CSCD

【文章页数】：7 页

【部分图文】：

SEM观察钛片表面(×3 000)

瓷剥脱后各组试件表面的SEM结果见图4,E组钛瓷断面出现裂隙及孔洞，表面未见明显瓷残留，EDS分析结果显示该断裂面主要由Ti和O构成，未检测出瓷粉特有元素Sn，证明该断裂位置位于Ti基底表面的氧化层内。A～D组钛瓷断面未见明显裂隙及空洞，钛瓷断面见较多瓷粉残留。其中B组钛瓷断裂界面瓷残留量最多，EDS结果可检测出涂层特有元素Co,Cr及纯钛专用瓷粉特有元素Sn，证明B组试件的钛瓷断层为瓷层内部、涂层内部和钛氧化层的混合断裂。图4 瓷剥脱界面的SEM观察和EDS分析

瓷剥脱界面的SEM观察和EDS分析

【参考文献】：
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本文编号：3612050