真空金属镀膜技术在潜在手印显现中的应用研究

发布时间：2017-10-08 21:09

  本文关键词：真空金属镀膜技术在潜在手印显现中的应用研究

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【摘要】：真空金属镀膜(VMD)法是显现非渗透及半渗透性客体上潜在手印的一种非常有效的方法。虽然不作为常规处理方法使用,但与其他显现方法相比,VMD法最大的优势在于对常规方法无法处理的疑难检材上的潜在手印具有超强的灵敏度及良好的显现效果,在一些重大的疑难案件中发挥了重要作用。本文综述了国内外利用真空金属镀膜法显现潜在手印的研究进展,并对其在手印显现过程中的作用机理、主要影响因素等进行归纳总结,提出真空金属镀膜法用于手印显现时需要注意的事项以及未来的研究方向。
【作者单位】： 中国人民公安大学;
【关键词】： 真空金属镀膜 潜在手印 手印显现 非渗透及半渗透性客体
【基金】：北京市科技计划课题(No.Z151100003315001)资助
【分类号】：D918.91
【正文快照】： 真空金属镀膜(VMD)法是显现多种客体表面潜在手印的一种非常灵敏的方法,尤其适用于非渗透及半渗透性客体,对于一些陈旧及疑难手印也具有较好的显现效果,灵敏度远大于“502”胶熏显等常规处理方法[1-2]。更重要的是,应用VMD法可以在客体背景镀上金属锌以有效去除深色及复杂背景

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本文编号：996246