研发强度与战略性新兴产业成长性研究——基于门限面板模型

发布时间：2018-03-03 12:04

  本文选题：战略性新兴产业　切入点：研发强度　出处：《工业技术经济》2017年05期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：本文以属于战略性新兴产业的A股上市公司为研究对象,使用门限面板模型研究了研发投入对成长性的非线性影响。研究结果表明,研发投入强度对战略性新兴产业的成长性存在显著的门限效应,随着研发强度的增加,其对成长性的促进作用表现出边际递减的规律。进一步基于空间异质性视角进行研究,结果表明:在东部、中部和西部地区分别存在唯一的门限值,在东部地区,研发强度对战略性新兴产业成长性始终表现为促进作用,而在中西部地区,研发强度一旦超过门限值,其对战略性新兴产业成长性转变为抑制作用。
[Abstract]:In this paper, A share listed companies which belong to strategic emerging industries are taken as the research object, and the nonlinear effect of R & D investment on growth is studied by using threshold panel model. The results show that, R & D investment intensity has significant threshold effect on the growth of strategic emerging industries. With the increase of R & D intensity, the promoting effect of R & D investment intensity shows the law of marginal decline. Further research is based on the perspective of spatial heterogeneity. The results show that there are unique threshold values in the eastern, central and western regions respectively. In the eastern region, R & D intensity has always played a role in promoting the growth of strategic emerging industries, while in the central and western regions, the R & D intensity has always played a role in promoting the growth of strategic emerging industries. Once the R & D intensity exceeds the threshold, it can inhibit the growth of strategic emerging industries.
【作者单位】： 华中科技大学;
【分类号】：F276.44;F273.1

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本文编号：1560953