硅基板表面电沉积法制备HAP涂层及表征

发布时间：2017-11-12 16:23

  本文关键词：硅基板表面电沉积法制备HAP涂层及表征

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【摘要】：在含有Ca~(2+)和PO_4~(3-)的电沉积液中,以硅基板为阴极,在其表面制备了HAP涂层,并用XRD、SEM、AFM及纳米压痕对涂层进行表征。通过对不同电沉积时间的涂层进行分析,可知加上电压后可以快速的在硅基板表面形成HAP的涂层,随着沉积时间延长,晶粒长大,涂层增厚,并在涂层上产生裂纹。由XRD图谱可知在最初阶段形成的HAP晶粒结晶度低,为无定型态状态,随着电沉积时间延长,组成涂层的晶粒结晶程度提高,XRD峰值增大变得尖锐。AFM分析表明晶粒生长均匀,粗糙度较低,纳米压痕测试结果显示涂层的力学性能较低。
【作者单位】： 山东建筑大学材料科学与工程学院;山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室;
【基金】：山东建筑大学博士科研基金(XNBS1435)
【分类号】：TB306
【正文快照】： 1引言在目前临床医疗中采用的植入体材料一般为金属材料、有机材料、无机材料或是复合材料,其与人体组织存在较大差异,生物相容性较差,常常产生排斥反应。为了改善植入体生物相容性,延长使用寿命,现在普遍的做法是在其表面采用物理或者化学的方法制备一层钙磷盐涂层,如羟基磷

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本文编号：1176690