氩气对MPCVD制备纳米金刚石薄膜的影响

发布时间：2018-03-09 21:48

  本文选题：纳米金刚石　切入点：MPCVD微波等离子体　出处：《人工晶体学报》2017年04期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：纳米金刚石(NCD)在精密机械、光学真空窗口等领域具有广泛的应用。利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)以乙醇、氩气和氢气为气源,通过改变氩气浓度探究氩气对NCD膜光学性质的影响,利用扫描电子显微镜(SEM)、Raman光谱、X射线衍射仪(XRD)和红外光谱对不同氩气浓度沉积的薄膜的结构、成分和性质进行表征。结果表明,随着氩气浓度升高,NCD膜表面粗糙度降低,同时金刚石的纯度下降,在此作用下,NCD膜的透光性随氩气浓度先升高后降。
[Abstract]:Nanocrystalline diamond (NCD) has been widely used in precision machinery, optical vacuum window and other fields. MPCVD was prepared by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) with ethanol, argon and hydrogen as gas sources. The effect of argon on the optical properties of NCD films was investigated by changing the concentration of argon. The structure of films deposited with different argon concentrations was studied by scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD). The results show that the surface roughness of NCD films decreases and the purity of diamond decreases with the increase of argon concentration, and the transmittance of NCD films decreases with the increase of argon concentration.
【作者单位】： 武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室;
【基金】：国家自然科学基金(11575134)
【分类号】：TB383.2;TQ163

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本文编号：1590366