平行磁场作用下电沉积Co-Ni-Mn-P磁性薄膜

发布时间：2018-04-04 17:14

  本文选题：平行磁场　切入点：Co-Ni-Mn-P磁性薄膜　出处：《电镀与环保》2017年02期

【摘要】：在平行磁场作用下电沉积Co-Ni-Mn-P磁性薄膜。研究了平行磁场对电沉积过程及薄膜性能的影响。研究发现:施加平行磁场,有利于提高离子的传质速率,从而提高沉积效率。平行磁场作用下电沉积制备的Co-Ni-Mn-P磁性薄膜呈现出"枝晶状"结构,矫顽力和比饱和磁化强度更高。
[Abstract]:Co-Ni-Mn-P magnetic films were electrodeposited under the action of parallel magnetic field.The effect of parallel magnetic field on electrodeposition process and film properties was studied.It is found that the application of parallel magnetic field can increase the mass transfer rate of ions and improve the deposition efficiency.The Co-Ni-Mn-P magnetic films prepared by electrodeposition under parallel magnetic field have a "dendritic" structure with a higher coercivity and higher saturation magnetization.
【作者单位】： 乌海职业技术学院;
【分类号】：TB383.2

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本文编号：1710903